Pat
J-GLOBAL ID:200903031562383334
三次元構造物形成方法および露光装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
西教 圭一郎
, 杉山 毅至
, 廣瀬 峰太郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004116003
Publication number (International publication number):2004334184
Application date: Apr. 09, 2004
Publication date: Nov. 25, 2004
Summary:
【課題】 所望の三次元構造物を高い精度で形成することができる三次元構造物形成方法および露光装置を提供する。【解決手段】 基板の厚み方向一端面部に、感光性材料から成り、形成すべき三次元構造物の厚み寸法に予め定める嵩上げ寸法を加算した厚み寸法を有する感光性材料層を形成する第1工程と、感光性材料層全体にわたって、予め定める最小光量以上の光量で露光光を照射して、三次元構造物を形成する第2工程とを有する。【選択図】 図2
Claim (excerpt):
基板に感光性材料から成る層を形成し、この層を少なくとも露光することで三次元構造物を形成する三次元構造物形成方法であって、
基板の厚み方向一端面部に、感光性材料から成り、形成すべき三次元構造物の厚み寸法に予め定める嵩上げ寸法を加算した厚み寸法を有する感光性材料層を形成する第1工程と、
感光性材料から成る感光性材料層全体にわたって、予め定める最小光量以上の光量で露光光を照射して、三次元構造物を形成する第2工程とを有することを特徴とする三次元構造物形成方法。
IPC (5):
G03F7/20
, B81C1/00
, G02B3/00
, G02F1/1335
, G03F1/08
FI (5):
G03F7/20 501
, B81C1/00
, G02B3/00 A
, G02F1/1335
, G03F1/08 G
F-Term (19):
2H091FA29
, 2H091FB04
, 2H091FC10
, 2H091FC23
, 2H091FC26
, 2H091FC29
, 2H091LA30
, 2H095BA12
, 2H095BC24
, 2H097AA03
, 2H097AA06
, 2H097BB01
, 2H097EA01
, 2H097FA02
, 2H097FA06
, 2H097GB00
, 2H097LA12
, 2H097LA15
, 2H097LA17
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
Cited by examiner (5)
Show all
Return to Previous Page