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J-GLOBAL ID：200903032690114016

重合体結合増感剤

Inventor：
プレームランタ・ジャンナタン

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レオ・エル・ライナハン

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ウェイン・エム・モロー

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ランドルフ・ジェイ・スミス

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Applicant, Patent owner：
インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション

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Agent (1)： 坂口 博 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997165664
Publication number (International publication number)：1998069071
Application date： Jun. 23, 1997
Publication date： Mar. 10, 1998
Summary：
【要約】【課題】 集積回路構造などの半導体装置の製造におけるリソグラフィ工程に使用するフォトレジスト組成物。【解決手段】 このフォトレジスト組成物は、塩基可溶性長鎖重合体に単量体増感剤が結合したものである。
Claim (excerpt)：
単量体増感剤と、分子量が1,000〜250,000の範囲の塩基可溶性長鎖重合体からなる、フォトレジスト処方に適した組成物。
IPC (3)：
G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601
FI (3)：
G03F 7/004 503 Z ,  G03F 7/038 601 ,  G03F 7/039 601
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (21)
  • ネガ型フォトレジスト膜の現像方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-166807   Applicant：日本合成ゴム株式会社
  • レジスト塗布組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-197813   Applicant：日本合成ゴム株式会社
  • 感放射線性樹脂組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-270332   Applicant：日本合成ゴム株式会社
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