ネガ型感放射線レジスト組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：阿形明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993101861
Publication number (International publication number)：1994289614
Application date： Apr. 06, 1993
Publication date： Oct. 18, 1994
Summary：

【要約】【構成】 (A)アルカリ可溶性樹脂、(B)アルコキシメチル化アミノ樹脂、(C)一般式【化1】(R1、R2及びR3は水素原子又は低級アルキル基、nは0又は1)で表わされるトリアジン化合物、及び場合により(D)一般式【化2】(R4及びR5は水素原子又は低級アルキル基、mは1〜3)で表わされるベンゾフェノン系化合物を含有して成るネガ型感放射線レジスト組成物である。【効果】このレジスト組成物は解像性、プロファイル形状、感度が優れ、基板からの反射光による影響を抑制できるという利点がある。

Claim (excerpt)：

(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)アルコキシメチル化アミノ樹脂、及び(C)一般式【化1】(式中のR1、R2及びR3はそれぞれ水素原子又は低級アルキル基であり、それらはたがいに同一でも異なっていてもよく、nは0又は1である)で表わされるトリアジン化合物を含有して成るネガ型感放射線レジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/038 505 , G03F 7/029 , G03F 7/031 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-093253 Applicant：日本合成ゴム株式会社
ネガ型フオトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-268572 Applicant：富士写真フイルム株式会社
特開昭63-139158

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