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J-GLOBAL ID:200903033418507501
微細化装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (7):
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 渡邊 隆
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 西 和哉
, 村山 靖彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006135711
Publication number (International publication number):2007301534
Application date: May. 15, 2006
Publication date: Nov. 22, 2007
Summary:
【課題】 微細化したときの大きさを均一に近づけた粒子を製造できると共に、連続的に大量の微細化粒子を製造することができる微細化装置を提供する。【解決手段】 マイクロ流路に有機物を含む懸濁液を流動させて、有機物にレーザ光を照射する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
レーザ光を発する光源を含み、前記レーザ光を有機物に照射する微細化装置であって、
前記有機物を含む懸濁液が流動可能な少なくとも1つのマイクロ流路と、
前記マイクロ流路で前記懸濁液を連続的又は間歇的に流動させる流動手段と、を含み、
前記マイクロ流路に存在する前記有機物に前記レーザ光を、所定の時間内に少なくとも1回照射することを特徴とする微細化装置。
IPC (3):
B01J 19/12
, B82B 3/00
, B02C 19/18
FI (3):
B01J19/12 H
, B82B3/00
, B02C19/18 B
F-Term (18):
4C076AA29
, 4C076CC27
, 4C076FF33
, 4C076GG03
, 4D067CD05
, 4D067GA20
, 4G075AA27
, 4G075AA39
, 4G075BB10
, 4G075BD01
, 4G075CA36
, 4G075DA02
, 4G075DA12
, 4G075EA02
, 4G075EB31
, 4G075ED20
, 4G075FA01
, 4G075FC20
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
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有機化合物の超微粒子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-047638
Applicant:独立行政法人科学技術振興機構
Cited by examiner (6)
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微粒子の製造方法、及び製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-207798
Applicant:浜松ホトニクス株式会社
-
微粒子、微粒子の製造方法、及び製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-362238
Applicant:浜松ホトニクス株式会社
-
ナノ粒子の製造方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2002-557374
Applicant:オリオンコーポレーション
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Article cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
-
マイクロ化学チップの技術と応用, 初版, 51頁,52頁,106〜109頁,299頁
-
Photochemical reactions and on-line UV detection in microfabricated reactors
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