Pat
J-GLOBAL ID:200903034167157022
全反射減衰を利用したセンサーおよび測定チップ
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
柳田 征史
, 佐久間 剛
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002186632
Publication number (International publication number):2004028832
Application date: Jun. 26, 2002
Publication date: Jan. 29, 2004
Summary:
【課題】センシング物質と試料中の特定物質との結合状態を測定する全反射減衰を利用したセンサーにおいて、結合した結合特定物質の回収量を増加させる。【解決手段】光ビーム20を、試料液15が供給された測定チップ10の誘電体ブロック11と薄膜層12との界面12aに対して種々の入射角が得られるように入射させ、界面12aで全反射した光ビーム20を光検出器23により検出して、ウェル部16内のセンシング物質17と試料液15中の特定物質との結合状態を測定する。ウェル部16の底面の薄膜層12に加え、側面にも薄膜層14を設け、各薄膜層上にセンシング物質17を固定する。底面の薄膜層12のみが設けられている従来のセンサーに比べて、センシング物質17が固定されている面積が大きく、多くの特定物質がセンシング物質17と結合する。このため結合状態を測定後、脱離処理を施し結合特定物質を回収する際の回収量が増加する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
光ビームを発生させる光源と、
前記光ビームに対して透明な誘電体ブロックと、
該誘電体ブロックの一面に形成される第1の薄膜層と、
該第1の薄膜層の表面上に配されて、試料中の特定物質と結合するセンシング物質と、
前記光ビームを前記誘電体ブロックに対して、該誘電体ブロックと前記第1の薄膜層との界面で全反射条件が得られる角度で入射させる光学系と、
前記界面で全反射した光ビームの強度を検出する光検出手段と、
該光検出手段の検出結果に基づいて全反射減衰の状態を測定する測定手段とを備えてなる全反射減衰を利用したセンサーにおいて、
前記誘電体ブロックの一面と異なる面に形成され、前記第1の薄膜層と略同一の化学特性を有する第2の薄膜層と、
該第2の薄膜層の表面上に配される前記センシング物質とをさらに備えたことを特徴とする全反射減衰を利用したセンサー。
IPC (4):
G01N21/27
, G01N1/00
, G01N21/05
, G01N21/11
FI (4):
G01N21/27 C
, G01N1/00 101G
, G01N21/05
, G01N21/11
F-Term (33):
2G052AD46
, 2G052CA04
, 2G052CA12
, 2G052GA12
, 2G057AA02
, 2G057AB04
, 2G057AB07
, 2G057AC01
, 2G057BA05
, 2G057BB06
, 2G057BC07
, 2G057EA06
, 2G057GA06
, 2G059AA01
, 2G059BB04
, 2G059BB12
, 2G059CC16
, 2G059DD12
, 2G059EE02
, 2G059EE05
, 2G059EE09
, 2G059FF04
, 2G059FF08
, 2G059FF09
, 2G059GG01
, 2G059GG04
, 2G059JJ11
, 2G059JJ13
, 2G059JJ19
, 2G059JJ20
, 2G059JJ22
, 2G059KK04
, 2G059PP04
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (11)
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全反射減衰を利用した測定方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-049681
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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センサ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-098304
Applicant:東陶機器株式会社
-
生化学計測装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-109082
Applicant:松下電器産業株式会社
-
サンプルプレート
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-186606
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
表面プラズモン共鳴測定用金属薄膜一体型フローセル及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-002307
Applicant:エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社, 日本電信電話株式会社
-
ダニアレルゲン計測方法、ダニアレルゲン用の被検査物、及びダニアレルゲン計測装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-344873
Applicant:アイシン精機株式会社
-
測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-157422
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
液体状態で存在する多数の試料を同時に測定するためのSPRセンサー
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2000-549943
Applicant:グラッフィニティファルマシューティカルデザインゲーエムベーハー, フラウンホーファーゲゼルシャフトツアフェルデルングデアアンゲヴァンテンフォルシュングエーファウ
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レンズおよび連結可能なフローセル
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平9-533660
Applicant:ユニバーシティーオブユタリサーチファンデーション
-
表面プラズモンセンサー
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-264087
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
ポリヌクレオチド分離方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-157268
Applicant:株式会社日立製作所
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Cited by examiner (12)
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全反射減衰を利用した測定方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-049681
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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センサ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-098304
Applicant:東陶機器株式会社
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生化学計測装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-109082
Applicant:松下電器産業株式会社
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サンプルプレート
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-186606
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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全反射減衰を利用した測定方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-030445
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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表面プラズモン共鳴測定用金属薄膜一体型フローセル及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-002307
Applicant:エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社, 日本電信電話株式会社
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センサプレート
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-252694
Applicant:スズキ株式会社
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SPRセンサプレート及びこれを用いた免疫反応測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-210024
Applicant:スズキ株式会社
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ダニアレルゲン計測方法、ダニアレルゲン用の被検査物、及びダニアレルゲン計測装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-344873
Applicant:アイシン精機株式会社
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光導波路型SPR現象計測チップ、その製造方法およびSPR現象計測方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-339895
Applicant:日本電信電話株式会社, エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社
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測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-157422
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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液体状態で存在する多数の試料を同時に測定するためのSPRセンサー
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2000-549943
Applicant:グラッフィニティファルマシューティカルデザインゲーエムベーハー, フラウンホーファーゲゼルシャフトツアフェルデルングデアアンゲヴァンテンフォルシュングエーファウ
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