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J-GLOBAL ID：200903063597895760

全反射減衰を利用した測定方法および装置

Inventor：
納谷 昌之

About 納谷 昌之

, 
久保 隆

About 久保 隆

, 
小倉 信彦

About 小倉 信彦

, 
森 信文

About 森 信文


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 柳田 征史 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001049681
Publication number (International publication number)：2001330560
Application date： Feb. 26, 2001
Publication date： Nov. 30, 2001
Summary：
【要約】【課題】 全反射減衰を利用した表面プラズモン共鳴測定装置等の測定装置において、多数の試料を短時間で測定可能とする。【解決手段】 誘電体ブロック、この誘電体ブロックの一面に形成された金属膜、および試料保持機構を備えてなる複数の測定ユニット10を支持体20に支持させ、この支持体20を支持体駆動手段50によって移動させる。この移動にともなって複数の測定ユニット10を、光源31から発せられた光ビーム30を照射する光学系(例えば集光レンズ32からなる)と、上記誘電体ブロックと金属膜との界面で全反射した光ビーム30の強度を測定して、表面プラズモン共鳴の状態を検出する光検出手段40とからなる測定部に順次送る。
Claim (excerpt)：
誘電体ブロック、この誘電体ブロックの一面に形成された薄膜膜、およびこの薄膜層の表面上に試料を保持する試料保持機構を備えてなる複数の測定ユニットと、これら複数の測定ユニットを支持した支持体と、光ビームを発生させる光源と、前記光ビームを前記誘電体ブロックに対して、該誘電体ブロックと前記薄膜層との界面で全反射条件が得られるように種々の入射角で入射させる光学系と、前記界面で全反射した光ビームの強度を測定して、全反射減衰の状態を検出する光検出手段と、前記複数の測定ユニットの各誘電体ブロックに関して順次前記全反射条件および種々の入射角が得られるように、前記支持体と前記光学系および光検出手段とを相対移動させて、各測定ユニットを順次前記光学系および光検出手段に対して所定位置に配置する駆動手段とを備えてなる全反射減衰を利用した測定装置。
IPC (5)：
G01N 21/27 ,  G01N 21/03 ,  G01N 21/13 ,  G01N 35/04 ,  G01N 35/10
FI (5)：
G01N 21/27 C ,  G01N 21/03 Z ,  G01N 21/13 ,  G01N 35/04 A ,  G01N 35/06 A
F-Term (40)：
2G057AA12 ,  2G057AB04 ,  2G057AB09 ,  2G057AC01 ,  2G057BA01 ,  2G057BA03 ,  2G057BB01 ,  2G057BB08 ,  2G057DB01 ,  2G057EA06 ,  2G057GA05 ,  2G057HA04 ,  2G058AA01 ,  2G058CA01 ,  2G058CC14 ,  2G058CC17 ,  2G058CD04 ,  2G058CF22 ,  2G058EA02 ,  2G058EA11 ,  2G059AA01 ,  2G059BB04 ,  2G059BB13 ,  2G059DD12 ,  2G059DD13 ,  2G059DD16 ,  2G059EE04 ,  2G059FF03 ,  2G059GG01 ,  2G059GG02 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ21 ,  2G059KK04 ,  2G059LL01 ,  2G059MM01 ,  2G059MM09 ,  2G059NN02 ,  2G059NN06 ,  2G059PP01
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (24)
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