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J-GLOBAL ID:200903034343688145

磁気記憶装置及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002352784
Publication number (International publication number):2003249630
Application date: Dec. 04, 2002
Publication date: Sep. 05, 2003
Summary:
【要約】【課題】誤書き込みを抑制するとともに、選択セルへの磁場を集中させる。【解決手段】半導体記憶装置は、第1の方向に延在する第1の配線13と、この第1の配線13の上方に配置された記憶素子18と、この記憶素子18上に、第1の方向と異なる第2の方向に延在する第2の配線20と、この第2の配線20の側面及び記憶素子18の側面に形成された磁気シールド層21とを具備する。
Claim (excerpt):
第1の方向に延在する第1の配線と、前記第1の配線の上方に配置された記憶素子と、前記記憶素子上に配置され、前記第1の方向と異なる第2の方向に延在する第2の配線と、前記第2の配線の側面及び前記記憶素子の側面に形成された第1の磁気シールド層とを具備することを特徴とする磁気記憶装置。
IPC (2):
H01L 27/105 ,  H01L 43/08
FI (2):
H01L 43/08 Z ,  H01L 27/10 447
F-Term (5):
5F083FZ10 ,  5F083GA15 ,  5F083NA08 ,  5F083PR39 ,  5F083PR40
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (5)
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