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J-GLOBAL ID：200903035544662507

円弧状スロット付無終端環状導波管、及びそれを用いたプラズマ処理装置及び処理方法

Inventor：
鈴木 伸昌

About 鈴木 伸昌


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 渡辺 勝 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998311052
Publication number (International publication number)：2000138171
Application date： Oct. 30, 1998
Publication date： May. 16, 2000
Summary：
【要約】【課題】 高圧領域で処理を行う場合でも、より低温でより高品質な処理を、より均一に行うことが可能になるように、大面積均一な平板状の高密度低電位プラズマを発生することができるマイクロ波プラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 プラズマ処理室と、該プラズマ処理室内に設置された被処理基体を支持する手段と、該基体支持手段に対向して該プラズマ処理室の外部に配され誘電体窓を透してマイクロ波を該プラズマ処理室に導入するマイクロ波導入手段と、該プラズマ処理室内にガスを導入する手段と、該プラズマ処理室内を排気する手段とで構成されるプラズマ処理装置において、該マイクロ波導入手段は、平板状H面に所定の間隔で穿孔されて設けられた円弧状スロットを有する無終端環状導波管であることを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。
Claim (excerpt)：
平板状H面に所定の間隔で穿孔されて設けられたスロットを有する無終端環状導波管において、マイクロ波の進行方向に沿って設けられたスロットが円弧状スロットであることを特徴とする無終端環状導波管。
IPC (4)：
H01L 21/205 ,  H01L 21/31 ,  H01Q 13/20 ,  H05H 1/46
FI (4)：
H01L 21/205 ,  H01L 21/31 C ,  H01Q 13/20 ,  H05H 1/46 B
F-Term (24)：
5F045AA09 ,  5F045AB32 ,  5F045AB33 ,  5F045AC01 ,  5F045AC11 ,  5F045AC15 ,  5F045AC16 ,  5F045AE21 ,  5F045AE23 ,  5F045AE25 ,  5F045BB07 ,  5F045BB09 ,  5F045DP03 ,  5F045EH03 ,  5J045AA01 ,  5J045AA02 ,  5J045AB05 ,  5J045AB06 ,  5J045DA04 ,  5J045EA04 ,  5J045FA02 ,  5J045GA01 ,  5J045HA01 ,  5J045LA01
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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