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J-GLOBAL ID:200903036326813370
置換基含有フタロニトリルまたはフタロシアニン化合物の製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998269833
Publication number (International publication number):2000095745
Application date: Sep. 24, 1998
Publication date: Apr. 04, 2000
Summary:
【要約】【課題】 ハロゲン含有フタロニトリルまたはハロゲン含有フタロシアニンとアミノ化合物などの親核的化合物とをアルカリ土類金属化合物の存在下に求核置換反応させて対応する置換基含有フタロニトリルまたはフタロシアニン化合物を製造するに当り、生成するハロゲン化水素をトラップしたアルカリ土類金属化合物を含む固形物を迅速にろ過して分離・除去し、効率よく置換基含有フタロニトリルまたはフタロシアニン化合物を製造する方法を提供する。【解決手段】 アルカリ土類金属化合物として平均粒径が10μm以上の粒子を使用する。
Claim (excerpt):
少なくとも1個のハロゲン原子を有するフタロニトリル、またはフタロシアニン骨格のベンゼン核上に少なくとも1個のハロゲン原子を有するフタロシアニン化合物と親核的化合物とを反応溶媒中でアルカリ土類金属化合物の存在下に求核置換反応させて対応する置換基含有フタロニトリルまたは置換基含有フタロシアニン化合物を製造する際に、アルカリ土類金属化合物として平均粒径が10μm以上の粒子を使用することを特徴とする置換基含有フタロニトリルまたは置換基含有フタロシアニン化合物の製造方法。
IPC (6):
C07C253/30
, C07C255/51
, C07D487/22
, C07F 9/00
, C09B 47/10
, C07B 61/00 300
FI (6):
C07C253/30
, C07C255/51
, C07D487/22
, C07F 9/00
, C09B 47/10
, C07B 61/00 300
F-Term (26):
4C050PA13
, 4C050PA15
, 4H006AA02
, 4H006AC52
, 4H006BA06
, 4H006BA29
, 4H006BA30
, 4H006BA32
, 4H006BA33
, 4H006BA35
, 4H006BA37
, 4H006BA45
, 4H006BA85
, 4H006QN30
, 4H039CA71
, 4H039CD10
, 4H039CD20
, 4H050AA02
, 4H050BB11
, 4H050BB12
, 4H050BB19
, 4H050BB20
, 4H050BB21
, 4H050BB22
, 4H050BB23
, 4H050WB14
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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フタロニトリル化合物およびフタロシアニン化合物の新規製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-215828
Applicant:株式会社日本触媒
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新規含フッ素フタロシアニン化合物、その製造方法、およびそれを含んでなる近赤外線吸収材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-274125
Applicant:株式会社日本触媒
-
フッ素含有水の処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-248625
Applicant:栗田工業株式会社, 橋本化成株式会社
-
フッ化カルシウム回収方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-226498
Applicant:橋本化成株式会社
-
フッ素含有廃水の処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-142737
Applicant:日立プラント建設株式会社
-
特開昭58-207990
-
アミノ置換芳香族化合物の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-103023
Applicant:株式会社日本触媒
-
含フッ素フタロニトリル誘導体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-176633
Applicant:株式会社日本触媒
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