Pat
J-GLOBAL ID:200903036643180251

p型半導体膜および半導体素子

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996332199
Publication number (International publication number):1997321389
Application date: Dec. 12, 1996
Publication date: Dec. 12, 1997
Summary:
【要約】【課題】 高キャリア濃度を有するp型半導体膜を具備する半導体素子を提供する。【解決手段】 p型半導体層とn型半導体層とによるpn接合を有し、前記p型半導体層中にp型導電性を付与するためのアクセプター性不純物と残留ドナーを補償するためのアクセプター性不純物とを含むことを特徴とする半導体素子である。
Claim (excerpt):
半導体膜にp型導電性を付与するためのアクセプター性不純物と残留ドナーを補償するためのアクセプター性不純物とを含むことを特徴とするp型半導体膜。
IPC (4):
H01S 3/18 ,  H01L 29/20 ,  H01L 33/00 ,  H01L 21/205
FI (4):
H01S 3/18 ,  H01L 33/00 C ,  H01L 21/205 ,  H01L 29/20
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
  • 半導体レーザ
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-305257   Applicant:旭化成工業株式会社
  • II-VI族化合物半導体及びその形成方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-134100   Applicant:ソニー株式会社
  • pn接合型発光ダイオード
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-121203   Applicant:シャープ株式会社
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Cited by examiner (5)
  • 半導体レーザ
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-305257   Applicant:旭化成工業株式会社
  • II-VI族化合物半導体及びその形成方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-134100   Applicant:ソニー株式会社
  • pn接合型発光ダイオード
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-121203   Applicant:シャープ株式会社
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