Pat
J-GLOBAL ID:200903037427159775
ポジ型感光性組成物
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001132546
Publication number (International publication number):2002214774
Application date: Apr. 27, 2001
Publication date: Jul. 31, 2002
Summary:
【要約】【課題】 遠紫外光、とくにArFエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ-ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、感度、解像力、露光マージンに優れ、スカムの発生の少ないポジ型感光性組成物を提供する。【解決手段】活性光線又は放射線の照射により式(X)のスルホン酸を発生する化合物と、単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂とを含有するポジ型感光性組成物。【化1】
Claim (excerpt):
(A)活性光線又は放射線の照射により下記一般式(X)で表されるスルホン酸を発生する化合物、及び(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。【化1】式(X)中、R1a〜R13aはそれぞれ水素原子、アルキル基、ハロゲン原子で置換されたアルキル基、ハロゲン原子または水酸基を表す。A1及びA2は同一または異なっており、それぞれヘテロ原子を有する2価の連結基または単結合を表す。但し、A1及びA2が同時に単結合の場合、R1a〜R13aの全てが同時にフッ素原子を表すことはなく、またR1a〜R13aの全てが同時に水素原子を表すことはない。m1〜m5は同一または異なっており、それぞれ0〜12の整数を表す。pは0〜4の整数を表す。
IPC (10):
G03F 7/004 503
, G03F 7/004 501
, C08K 5/42
, C08L101/12
, H01L 21/027
, C07C 25/02
, C07C309/09
, C07C309/68
, C07C317/28
, C07C381/12
FI (10):
G03F 7/004 503 A
, G03F 7/004 501
, C08K 5/42
, C08L101/12
, C07C 25/02
, C07C309/09
, C07C309/68
, C07C317/28
, C07C381/12
, H01L 21/30 502 R
F-Term (43):
2H025AA00
, 2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA04
, 2H025AB16
, 2H025AB17
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BG00
, 2H025CB13
, 2H025CB14
, 2H025CB29
, 2H025CC20
, 2H025FA03
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 4H006AA03
, 4H006AB76
, 4H006EA21
, 4H006TA02
, 4H006TN10
, 4H006TN30
, 4H006TN90
, 4J002AA00W
, 4J002AA00X
, 4J002BC12X
, 4J002BG01X
, 4J002BG03X
, 4J002BG05W
, 4J002BG07W
, 4J002BG08W
, 4J002BH02W
, 4J002BQ00W
, 4J002CC03X
, 4J002EH037
, 4J002EH117
, 4J002EL087
, 4J002EV236
, 4J002EV296
, 4J002FD206
, 4J002FD207
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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新規スルホニウム塩及び化学増幅ポジ型レジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-307363
Applicant:信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
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ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-321128
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
化学増幅型ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-315265
Applicant:住友化学工業株式会社
-
化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びスルホニウム塩
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-060057
Applicant:住友化学工業株式会社
-
化学増幅型ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-011292
Applicant:住友化学工業株式会社
-
化学増幅型ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-053967
Applicant:住友化学工業株式会社
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