Pat
J-GLOBAL ID：200903078200427445

投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法

Inventor：
佐藤 洋

About 佐藤 洋


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998136169
Publication number (International publication number)：1999317348
Application date： Apr. 30, 1998
Publication date： Nov. 16, 1999
Summary：
【要約】【課題】 レチクル面上のパターンを種々な照明モードで照明しても常に高い解像力が得られる露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。【解決手段】 パターンが形成されたレチクルを照明する照明光学系と、該パターンを基板上に投影する投影光学系とを有する投影露光装置において、被照射面上において光軸に関して対称に照度分布を変化させる第1の手段と、光軸に関して非対称に照度分布を変化させる第2の手段とを有し、該被照射面上の照度分布を光軸に関して対象な成分と光軸に関して非対称な成分とに分離し、前記第1及び第2の手段により各々の照度分布の成分を独立して変化させ、照度ムラを補正すること。
Claim (excerpt)：
パターンが形成されたレチクルを照明する照明光学系と、該パターンを基板上に投影する投影光学系とを有する投影露光装置において、被照射面上において光軸に関して対称に照度分布を変化させる第1の手段と、光軸に関して非対称に照度分布を変化させる第2の手段とを有し、該被照射面上の照度分布を光軸に関して対称な成分と光軸に関して非対称な成分とに分離し、前記第1及び第2の手段により各々の照度分布の成分を独立して変化させ、照度ムラを補正することを特徴とする投影露光装置。
IPC (3)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/22
FI (4)：
H01L 21/30 527 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 515 D
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (7)
Show all
Cited by examiner (7)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM