近接場光学顕微鏡装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：西教圭一郎 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000216432
Publication number (International publication number)：2002031591
Application date： Jul. 17, 2000
Publication date： Jan. 31, 2002
Summary：

【要約】【課題】励起エリア外の発光を検出することができる近接場光学顕微鏡装置を提供する。【解決手段】レーザ光源からのレーザ光を光源側光ファイバで試料表面に導き、ファイバ先端の近接場光によって試料の微小領域を励起する。励起された試料表面では、電子、キャリア、励起子が発生し、励起エリアで発光するとともに、発生した電子、キャリア、励起子が励起エリア外に流れ出し、励起エリア外でも発光する。前記光源側光ファイバ先端から離間した位置の試料表面に向けて先端が配置される受光側光ファイバで発光を受光することによって、励起エリアとは異なる位置の試料表面の発光を観測することができる。

Claim (excerpt)：

光源からの光を試料表面に導く光源側導光手段を有し、光源側導光手段先端の近接場光によって試料の微小領域を照射し、照射された試料からの光を受光して試料を観測する近接場光学顕微鏡装置において、前記光源側導光手段先端から、試料表面に沿う方向に離間した位置の試料表面に向けて先端が配置され、試料からの光を導く受光側導光手段を有し、光源側導光手段で照射された位置とは異なる位置からの光を観測可能な近接場光学顕微鏡装置。

IPC (3)：

G01N 13/14 , G01N 21/63 , G02B 21/06

FI (3)：

G01N 13/14 A , G01N 21/63 Z , G02B 21/06

F-Term (23)：

2G043AA03 , 2G043CA05 , 2G043EA10 , 2G043FA01 , 2G043FA03 , 2G043GA04 , 2G043GB01 , 2G043GB03 , 2G043GB21 , 2G043HA01 , 2G043HA05 , 2G043JA05 , 2G043KA08 , 2G043KA09 , 2G043LA03 , 2H052AA00 , 2H052AB01 , 2H052AC04 , 2H052AC26 , 2H052AC34 , 2H052AF06 , 2H052AF07 , 2H052AF14

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

透過型フォトン走査型トンネル顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-165726 Applicant：株式会社ニコン
特開昭62-124443
特開平4-143637

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

Direct mapping of the far and near field optical emission of nano-sized tapered glass fibers by an i

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