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J-GLOBAL ID:200903038594246236
転写用の型および転写方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (7):
三好 秀和
, 岩▲崎▼ 幸邦
, 中村 友之
, 川又 澄雄
, 伊藤 正和
, 高橋 俊一
, 高松 俊雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006223791
Publication number (International publication number):2008044289
Application date: Aug. 21, 2006
Publication date: Feb. 28, 2008
Summary:
【課題】転写用の型に形成されている微細な転写パターンを被成形品に転写する転写方法に使用される型において、被成形品に形成される残膜を無くし正確な転写を行うことができる型を提供する。【解決手段】所定の波長の電磁波が透過する材料で平板状に形成され、厚さ方向の一方の面21に凹部23を設けることによって微細な転写パターン5を形成してある転写用の型3において、一方の面21のうちで、凹部23以外の平面には、前記所定の波長の電磁波を遮る膜25が形成されている。【選択図】図2
Claim (excerpt):
所定の波長の電磁波が透過する材料で平板状に形成され、厚さ方向の一方の面に凹凸部を設けることによって微細な転写パターンを形成してある転写用の型において、
前記一方の面のうちで、前記凹部以外の平面には、前記所定の波長の電磁波を遮る膜が形成されていることを特徴とする転写用の型。
IPC (5):
B29C 33/38
, B29C 59/02
, B29C 39/26
, B29C 39/02
, H01L 21/027
FI (5):
B29C33/38
, B29C59/02 B
, B29C39/26
, B29C39/02
, H01L21/30 502D
F-Term (31):
4F202AA44
, 4F202AF01
, 4F202AJ02
, 4F202AJ06
, 4F202AJ09
, 4F202AK03
, 4F202CA01
, 4F202CA09
, 4F202CA19
, 4F202CB01
, 4F202CD24
, 4F202CN01
, 4F202CN17
, 4F204AA44
, 4F204AC05
, 4F204AF01
, 4F204AG05
, 4F204EA03
, 4F204EB01
, 4F204EB11
, 4F204EK18
, 4F204EK24
, 4F209AA44
, 4F209AG01
, 4F209AG05
, 4F209AJ08
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PN09
, 4F209PQ11
, 5F046BA10
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
-
微小型押成形装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-190094
Applicant:株式会社エリオニクス
Cited by examiner (6)
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