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J-GLOBAL ID:200903038617582808

窒化物半導体の電極

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996102542
Publication number (International publication number):1997293898
Application date: Apr. 24, 1996
Publication date: Nov. 11, 1997
Summary:
【要約】【目的】 p型窒化物半導体と安定して好ましいオーミック接触が得られると共に、接触抵抗の低い電極を提供する。【構成】 p型窒化物半導体層表面に、少なくともパラジウム(Pd)と、窒素と反応しない金属とを含む電極が形成されていることにより、窒素と反応しない金属が窒化物半導体とも反応しないため安定したオーミック接触が得られる。
Claim (excerpt):
p型窒化物半導体層表面に、少なくともパラジウム(Pd)と、窒素と反応しない金属とを含む電極が形成されていることを特徴とする窒化物半導体の電極。
IPC (2):
H01L 33/00 ,  H01S 3/18
FI (3):
H01L 33/00 E ,  H01L 33/00 C ,  H01S 3/18
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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