光断層画像撮像装置および光断層画像の撮像方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：長尾達也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008130392
Publication number (International publication number)：2009273818
Application date： May. 19, 2008
Publication date： Nov. 26, 2009
Summary：

【課題】OCT装置によって、特に被検眼の眼底における網膜の断層像を撮像するに際し、測定光が虹彩にけられた場合の影響を抑制し、取得される断層像の信頼性を確保することが可能となる光断層画像撮像装置等を提供する。【解決手段】光断層画像撮像装置であって、測定光が被検査物に照射する状態を観察し、前記測定光が前記被検査物に入射する状態を観察画像として画像化する観察手段と、前記観察画像を前記光断層画像撮像装置による断層画像と関連付けて記録する記録手段と、前記観察手段において画像化された前記観察画像をもとにして、前記観察画像と関連付けられた断層画像の信頼性の評価を行う評価手段と、を有する構成とする。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

光源からの光を測定光と参照光とに分割し、前記測定光を被検査物に導くと共に前記参照光を参照ミラーに導き、前記被検査物によって反射あるいは散乱された前記測定光による戻り光と、前記参照ミラーによって反射された前記参照光とを用い、前記被検査物の断層画像を撮像する光断層画像撮像装置であって、前記測定光が前記被検査物に照射する状態を観察し、前記測定光が前記被検査物に入射する状態を観察画像として画像化する観察手段と、前記観察画像を前記光断層画像撮像装置による前記断層画像と関連付けて記録する記録手段と、前記観察手段において画像化された前記観察画像をもとにして、前記観察画像と関連付けられた断層画像の信頼性の評価を行う評価手段と、を有することを特徴とする光断層画像撮像装置。

IPC (4)：

A61B 3/10 , G01N 21/17 , G02B 21/18 , A61F 9/007

FI (4)：

A61B3/10 Z , G01N21/17 630 , G02B21/18 , A61F9/00 570

F-Term (34)：

2G059AA05 , 2G059BB12 , 2G059DD12 , 2G059EE02 , 2G059EE09 , 2G059EE11 , 2G059FF02 , 2G059FF09 , 2G059HH01 , 2G059HH06 , 2G059JJ11 , 2G059JJ13 , 2G059JJ15 , 2G059JJ17 , 2G059JJ18 , 2G059JJ22 , 2G059KK01 , 2G059KK03 , 2G059KK04 , 2G059LL04 , 2G059MM09 , 2H052AA07 , 2H052AA08 , 2H052AB14 , 2H052AB24 , 2H052AB29 , 2H052AC03 , 2H052AC13 , 2H052AC15 , 2H052AC26 , 2H052AC27 , 2H052AD06 , 2H052AF02 , 2H052AF14

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (9)

光学系及び光学装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-374085 Applicant：オリンパス光学工業株式会社
眼科撮影装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-026894 Applicant：株式会社ニデック
眼底カメラ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-180393 Applicant：株式会社ニデック

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Cited by examiner (9)

眼科撮影装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-026894 Applicant：株式会社ニデック
角膜手術装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-233560 Applicant：株式会社ニデック
眼底カメラ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-180393 Applicant：株式会社ニデック

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