転写装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (7)：三好秀和 , 岩▲崎▼ 幸邦 , 中村友之 , 川又澄雄 , 伊藤正和 , 高橋俊一 , 高松俊雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005377915
Publication number (International publication number)：2007180315
Application date： Dec. 28, 2005
Publication date： Jul. 12, 2007
Summary：

【課題】型に設けられている微細パターンを基板に転写する転写装置において、簡素な構成で正確な転写を行うことができる転写装置を提供する。【解決手段】微細な転写パターンが形成されている型M1で基板Wを押圧することにより、転写パターンを基板Wに転写する転写装置1において、基板Wの背面側、型M1の背面側の少なくとも一方の側に、弾性部材7、11が設けられている。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

微細な転写パターンが形成されている型で基板を押圧することにより、前記転写パターンを前記基板に転写する転写装置において、前記基板の背面側、前記型の背面側の少なくとも一方の側に、弾性部材が設けられていることを特徴とする転写装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 , B29C 59/02 , B81C 5/00

FI (3)：

H01L21/30 502D , B29C59/02 B , B81C5/00

F-Term (15)：

4F209AC01 , 4F209AD08 , 4F209AF01 , 4F209AG05 , 4F209AH33 , 4F209AH73 , 4F209AP06 , 4F209AR07 , 4F209PA02 , 4F209PB01 , 4F209PC01 , 4F209PC05 , 4F209PN06 , 4F209PN13 , 5F046AA28

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

微小型押成形装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-190094 Applicant：株式会社エリオニクス

Cited by examiner (5)

微小型押成形装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-190094 Applicant：株式会社エリオニクス
モールド、モールドを用いた加工装置及びモールドを用いた加工方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-044727 Applicant：キヤノン株式会社
インプリントリソグラフィー用移動ステージ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-267764 Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所

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