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J-GLOBAL ID:200903040574093020

有害物質処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 櫛渕 昌之 ,  櫛渕 一江
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005126993
Publication number (International publication number):2006296980
Application date: Apr. 25, 2005
Publication date: Nov. 02, 2006
Summary:
【課題】 VOCや悪臭などの有害物質を高濃度に含むガスを効果的に処理することのできる有害物質処理装置を提供する。【解決手段】 被処理ガスに含まれる有害物質を処理する有害物質処理装置1において、紫外線ランプ210と、前記紫外線ランプ210を囲み前記紫外線ランプ210が放射する紫外線により活性化され通気性を有する光触媒フィルタ222とを有する光触媒ユニット21を備え、前記紫外線ランプ210の長軸に対して前記被処理ガスが略垂直に通過するように前記光触媒ユニット21を配置した。【選択図】 図2
Claim (excerpt):
被処理ガスに含まれる有害物質を処理する有害物質処理装置において、 紫外線ランプと、 前記紫外線ランプを囲み前記紫外線ランプが放射する紫外線により活性化される、通気性を有する光触媒フィルタとを有する光触媒ユニットを備え、 前記紫外線ランプの長軸に対して前記被処理ガスが略垂直に通過するように前記光触媒ユニットを配置したことを特徴とする有害物質処理装置。
IPC (2):
A61L 9/00 ,  A61L 9/20
FI (2):
A61L9/00 C ,  A61L9/20
F-Term (11):
4C080AA07 ,  4C080AA10 ,  4C080BB02 ,  4C080CC01 ,  4C080HH05 ,  4C080KK08 ,  4C080LL03 ,  4C080MM02 ,  4C080NN02 ,  4C080QQ03 ,  4C080QQ11
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • 光触媒装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2000-059935   Applicant:株式会社ノリタケカンパニーリミテド
Cited by examiner (8)
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