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J-GLOBAL ID：200903043850254261

液体原材料を気相にしてCVD反応室へ供給する装置及び方法

Inventor： シュトラウヒ、ゲルト ,  リントナー、ヨハネス ,  シューマッハー、マルクス
Applicant, Patent owner： アイクストロン、アーゲー
Agent (1)： 小島 高城郎
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2002543047
Publication number (International publication number)：2004514063
Application date： Oct. 27, 2001
Publication date： May. 13, 2004
Summary：

本発明は、液体原材料を気相にしてCVD反応室へ供給する方法に関する。CVD反応室は、加熱によって蒸発するエアロゾルを生成するガス流(3)と交差する液体チャンネル(2)を備えたノズル(1)を備える。本発明の目的は、一般的方法又は装置において液体供給量制御を改良し、蒸発熱はガスからもらうことである。

Claim (excerpt)：

液体原材料を、気相にし、CVD反応室へ供給する方法であって、 前記CVD反応室は、ノズル(1)を有し、前記ノズルは、ガスの流れの通路(3)を横切る液体通路(2)を有し、 熱の供給によって蒸発するエアロゾルを形成し、 蒸発熱は、前記ガスのみから奪うことを特徴とする方法。

IPC (2)：

C23C16/448 ,  H01L21/31

FI (2)：

C23C16/448 ,  H01L21/31 B

F-Term (10)：

4K030AA11 ,  4K030EA01 ,  4K030JA10 ,  4K030KA25 ,  4K030KA41 ,  5F045AA04 ,  5F045AB31 ,  5F045AC07 ,  5F045EE02 ,  5F045EF01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

• 気化供給装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-282746   Applicant：日本パイオニクス株式会社
• 液体原料用CVD装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-100869   Applicant：菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社, 三菱電機株式会社
• 液体材料の気化供給装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-228264   Applicant：エア・ウォーター株式会社
• 気化器及びこれを用いた半導体製造システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-271920   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 株式会社リンテック
• CVD装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-288535   Applicant：三菱マテリアル株式会社
• CVD原料用気化装置およびこれを用いたCVD装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-081499   Applicant：三菱電機株式会社
• 有機液媒質に分散された微粉粒子状強誘電 体のコロイド溶液の質量流量制御と気化
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-315396   Applicant：株式会社リンテック