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J-GLOBAL ID:200903044488436638
酸発生剤、スルホン酸、スルホン酸誘導体および感放射線性樹脂組成物
Inventor:
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,
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
福沢 俊明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002189133
Publication number (International publication number):2004002252
Application date: Jun. 28, 2002
Publication date: Jan. 08, 2004
Summary:
【課題】感放射線性酸発生剤ないし熱酸発生剤として、燃焼性が比較的高く、また人体蓄積性にも問題がなく、しかも発生する酸の酸性度および沸点が十分高く、かつレジスト被膜中での拡散長が適度に短く、またマスクパターン依存性が小さい新規な酸発生剤、当該酸発生剤を含有するポジ型およびネガ型の感放射線性樹脂組成物等を提供する。【解決手段】酸発生剤は、下記一般式(I)で表される構造を有する。
〔但し、Rはフッ素含有率が50重量%以下である1価の有機基、ニトロ基、シアノ基または水素原子を示し、Z1 およびZ2 はフッ素原子またはパーフルオロアルキル基を示す。〕感放射線性樹脂組成物は、前記酸発生剤以外に、ポジ型では酸解離性基含有樹脂を含有するか、アルカリ可溶性樹脂とアルカリ溶解性制御剤を含有し、ネガ型ではアルカリ可溶性樹脂と架橋剤を含有する。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
下記一般式(I)で表される構造を有する化合物からなる酸発生剤。
IPC (9):
C07C309/06
, C07C309/17
, C07C309/80
, C07C309/84
, C09K3/00
, G03F7/004
, G03F7/038
, G03F7/039
, H01L21/027
FI (9):
C07C309/06
, C07C309/17
, C07C309/80
, C07C309/84
, C09K3/00 K
, G03F7/004 503A
, G03F7/038 601
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
F-Term (20):
2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB52
, 2H025CC20
, 2H025FA03
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 4H006AA01
, 4H006AA03
, 4H006AB80
, 4H006AB81
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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スルホン酸オニウム塩化合物および感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-135030
Applicant:ジェイエスアール株式会社
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低表面張力硫酸組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-212761
Applicant:三菱化学株式会社
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特開平3-209346
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特開昭48-032810
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ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-321128
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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ポジ型感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-132546
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-383801
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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