新規スルホニルジアゾメタン化合物及びレジスト材料用の光酸発生剤

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小島隆司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999230142
Publication number (International publication number)：2001055373
Application date： Aug. 16, 1999
Publication date： Feb. 27, 2001
Summary：

【要約】【解決手段】下記一般式(1)で示されるスルホニルジアゾメタン化合物。【化1】(R1は炭素数1〜10のアルキル基、あるいは炭素数6〜14のアリール基を示す。R2は炭素数1〜6のアルキル基を示す。GはSO2又はCOを示し、R3は炭素数1〜10のアルキル基、あるいは炭素数6〜14のアリール基を示す。pは0〜4の整数、qは1〜5の整数であり、1≦p+q≦5である。nは1又は2であり、mは0又は1である。また、n+m=2である。)【効果】本発明の一般式(1)あるいは(1a)で示されるスルホニルジアゾメタンは、化学増幅型レジスト材料の光酸発生剤として好適に用いることができ、分子内にスルホン酸エステル基を含有することより、解像性、焦点余裕度に優れ、PEDが長時間にわたる場合にも線幅変動、形状劣化が少なく、更に塗布後、現像後、剥離後の異物が少なく、現像後のパターンプロファイル形状に優れ、微細加工に適した高解像性を有し、特に遠紫外リソグラフィーにおいて大いに威力を発揮する。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で示されるスルホニルジアゾメタン化合物。【化1】(式中R1は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状の置換もしくは非置換のアルキル基、あるいは炭素数6〜14の置換もしくは非置換のアリール基を示す。R2は同一でも異なってもよく、炭素数1〜6の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を示す。GはSO2又はCOを示し、R3は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状又は環状の置換もしくは非置換のアルキル基、あるいは炭素数6〜14の置換もしくは非置換のアリール基を示す。pは0〜4の整数、qは1〜5の整数であり、1≦p+q≦5である。nは1又は2であり、mは0又は1である。また、n+m=2である。)

IPC (2)：

C07C317/28 , G03F 7/004 503

FI (2)：

C07C317/28 , G03F 7/004 503 A

F-Term (30)：

2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC01 , 2H025AC03 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BJ01 , 2H025CB13 , 2H025CB16 , 2H025CB42 , 2H025CB43 , 2H025CB45 , 2H025CB52 , 2H025CC00 , 2H025CC03 , 2H025FA17 , 2H025FA29 , 4H006AA01 , 4H006AB92 , 4H006TA04 , 4H006TB42 , 4H006TB74 , 4H006TB80

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

新規なスルホニルジアゾメタン化合物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-198953 Applicant：東京応化工業株式会社, ダイトーケミックス株式会社
化学増幅型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-198979 Applicant：東京応化工業株式会社
レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-245566 Applicant：信越化学工業株式会社

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