Pat
J-GLOBAL ID:200903044909248038
変倍光学系
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
西山 恵三
, 内尾 裕一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004062471
Publication number (International publication number):2004295107
Application date: Mar. 05, 2004
Publication date: Oct. 21, 2004
Summary:
【課題】 所望の変倍比を得つつ、倍率色収差等の諸収差の発生を抑制しコンパクトな構成の変倍光学系を実現すること。【解決手段】 反射曲面R1〜R3を有する光学ブロックRと、光学ブロックRよりも縮小側に配置された光学ブロックCとで変倍光学系を構成する。光学ブロックCは移動可能な複数のレンズユニットを有し、複数のレンズユニットの移動により変倍を行う。そして、縮小側から拡大側へ光線をトレースするとき、光学ブロックCは光学ブロックRの最も縮小側の光学面(反射面R1)より拡大側に縮小側共役点の像を形成する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
縮小側の物体を拡大側の像面に拡大投影する、又は拡大側の物体を縮小側の像面に縮小投影する変倍光学系において、反射曲面を備える第1光学成分と、移動可能な複数のレンズユニットを備え、該複数のレンズユニットの移動により変倍を行う、該第1光学成分よりも縮小側に配置された第2光学成分とを有し、縮小側から拡大側へ光線をトレースするとき、前記第2光学成分は、前記第1光学成分の最も縮小側の光学面よりも拡大側に縮小側共役点の像を形成することを特徴とする変倍光学系。
IPC (6):
G02B17/08
, G02B13/18
, G02B13/24
, G02B15/167
, G03B21/00
, H04N5/74
FI (6):
G02B17/08 A
, G02B13/18
, G02B13/24
, G02B15/167
, G03B21/00 D
, H04N5/74 A
F-Term (32):
2H087KA06
, 2H087KA07
, 2H087PA08
, 2H087PA20
, 2H087PB11
, 2H087RA05
, 2H087RA06
, 2H087RA12
, 2H087RA13
, 2H087RA32
, 2H087RA41
, 2H087SA57
, 2H087SA63
, 2H087SA64
, 2H087SA65
, 2H087SA66
, 2H087SA72
, 2H087SB04
, 2H087SB13
, 2H087SB22
, 2H087SB33
, 2H087SB43
, 2H087TA01
, 2H087TA05
, 2H087TA06
, 2K103AA05
, 2K103AB07
, 2K103BC23
, 2K103BC43
, 5C058BA35
, 5C058EA02
, 5C058EA12
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (10)
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投写レンズ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-270690
Applicant:シャープ株式会社
-
光学系および光学装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-074627
Applicant:キヤノン株式会社
-
ズームレンズ及びそれを用いた画像投影装置及び撮像装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-382025
Applicant:キヤノン株式会社
-
斜め投影光学系
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-086264
Applicant:ミノルタ株式会社
-
処理方法及びそれを用いた処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-178236
Applicant:キヤノン株式会社
-
反射型の光学系及びそれを用いた撮像装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-123238
Applicant:キヤノン株式会社
-
反射型のズーム光学系及びそれを用いた撮像装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-123236
Applicant:キヤノン株式会社
-
ズーム光学系及びそれを用いた撮像装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-054276
Applicant:キヤノン株式会社
-
投射光学系及びそれを用いた投射型表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-065404
Applicant:キヤノン株式会社
-
投射型表示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-272567
Applicant:キヤノン株式会社
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Cited by examiner (1)
-
光学系および光学装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-074627
Applicant:キヤノン株式会社
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