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J-GLOBAL ID:200903047459680774
プラズマディスプレイパネルの製造方法および基板保持具
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
岩橋 文雄
, 坂口 智康
, 内藤 浩樹
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004039428
Publication number (International publication number):2004273445
Application date: Feb. 17, 2004
Publication date: Sep. 30, 2004
Summary:
【課題】プラズマディスプレイパネルの基板への成膜において、膜質に悪影響を与える成膜装置内のダストの発生を抑制することができるプラズマディスプレイパネルの製造方法とその基板保持具を実現することを目的とする。【解決手段】基板3とダミー基板35を下方から支持する支持手段34aと、基板3の面方向の位置を規制する規制手段とからなる保持手段を有する枠体33よりなる第一の基板保持具31を第二の基板保持具32によって保持しながら成膜する。【選択図】図5
Claim (excerpt):
プラズマディスプレイパネルの基板を基板保持具に保持して成膜を行うプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、複数の枠体を有する第一の基板保持具を第二の基板保持具に載置し、前記第一の基板保持具の前記枠体で前記基板およびダミー基板を保持して成膜を行うことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (8):
5C027AA01
, 5C027AA03
, 5C027AA05
, 5C027AA07
, 5C040GC19
, 5C040GE09
, 5C040JA07
, 5C040JA34
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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蒸着方法及び蒸着装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-138998
Applicant:富士通株式会社
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成膜装置および成膜装置に用いる防着部材
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-134538
Applicant:三菱電機株式会社
-
薄膜形成装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-105051
Applicant:株式会社島津製作所
-
成膜装置の基板トレイ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-287138
Applicant:アネルバ株式会社
-
薄膜形成方法及び薄膜形成装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-277697
Applicant:三洋電機株式会社
-
プラズマディスプレイパネルの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-109815
Applicant:松下電器産業株式会社
-
プラズマディスプレイパネルの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-109816
Applicant:松下電器産業株式会社
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