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J-GLOBAL ID:200903049440979160

微細気泡発生装置およびそれが組み込まれた微細気泡循環システム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (6): 深見 久郎 ,  森田 俊雄 ,  仲村 義平 ,  堀井 豊 ,  野田 久登 ,  酒井 將行
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005256265
Publication number (International publication number):2007069071
Application date: Sep. 05, 2005
Publication date: Mar. 22, 2007
Summary:
【課題】 既存の構造を大きく変更することなく、小さい径の多数の微細気泡を発生させることが可能な微細気泡発生装置およびそれが組み込まれた微細気泡循環システムを提供する。【解決手段】 微細気泡発生装置10は、気体導入管11から導入された気体と液体導入管13から導入された液体とが混合される空間12を内包する混合容器1と、空間12において発生した気液混合体を外部に排出する排出管14とを備えている。混合容器1においては、液体の旋回流が生じ、気体が旋回流によって分裂し、それにより、微細気泡が発生する。また、液体導入管13には、内径が他の部分の内径と比較して小さい絞り部15が設けられている。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
気体導入管と、 液体導入管と、 前記気体導入管から導入された気体と前記液体導入管から導入された液体とが混合される空間を内包する混合容器と、 前記空間において発生した気液混合体を外部に排出する排出管とを備え、 前記混合容器において、前記液体の旋回流が生じ、前記気体が前記旋回流によって分裂し、それにより、微細気泡が発生する微細気泡発生装置であって、 前記液体導入管には、内径が他の部分の内径と比較して小さい絞り部が設けられている、微細気泡発生装置。
IPC (3):
B01F 3/04 ,  B01F 5/00 ,  B01F 5/06
FI (3):
B01F3/04 A ,  B01F5/00 G ,  B01F5/06
F-Term (6):
4G035AB05 ,  4G035AB27 ,  4G035AC26 ,  4G035AC29 ,  4G035AC44 ,  4G035AE01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (6)
  • 旋回式微細気泡発生装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平10-378496   Applicant:大成博文
  • 気泡発生装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2001-197732   Applicant:株式会社日立製作所, 日立笠戸エンジニアリング株式会社
  • 水圧を利用した酸素溶解方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平11-308304   Applicant:株式会社山広
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