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J-GLOBAL ID：200903050457426340

微細パターン形成プラスチックフィルムおよび埋め込み微細パターンの形成方法

Inventor：
桂川 忠雄

About 桂川 忠雄


Applicant, Patent owner：
株式会社リコー

About 株式会社リコー


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005128167
Publication number (International publication number)：2006308668
Application date： Apr. 26, 2005
Publication date： Nov. 09, 2006
Summary：
【課題】 各種の光学素子として用いる埋め込み微細パターンを有するプラスチックフィルムにおいて、400nm以下の周期を有する埋め込み型微細パターンを容易に得、特に透明なプラスチックフィルムに一度に埋め込み微細パターンを形成して、精度の良いかつ外圧によって微細凸状パターンのようなパターン倒れがないような光学素子を得ること。【解決手段】 プラスチックフィルム上に薄膜を設け、これらのプラスチックフィルムと薄膜を共に加熱した状態で、微細凹凸パターンを設けた加熱原盤を前記薄膜に押しつけて、該薄膜を前記加熱原盤の凸部により、プラスチックフィルム実体に陥没させた後、前記原盤の凹部に対応する陥没していない薄膜を除去することを特徴とする埋め込み微細パターンの形成方法を主たる構成にする。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
薄膜を設けたプラスチックフィルムを加熱して、微細凹凸パターンを設けた加熱原盤を、前記薄膜を介して押圧して、前記加熱原盤の凸部に対応する薄膜部を前記プラスチックフィルム体に埋設させると共に前記原盤の凹部に対応する薄膜部を除去して得られた埋め込み微細パターン形成プラスチックフィルム。
IPC (5)：
G02B 5/18 ,  H01L 21/027 ,  B81C 5/00 ,  B29C 59/02 ,  G02B 5/30
FI (5)：
G02B5/18 ,  H01L21/30 502D ,  B81C5/00 ,  B29C59/02 Z ,  G02B5/30
F-Term (35)：
2H049AA03 ,  2H049AA07 ,  2H049AA31 ,  2H049AA33 ,  2H049AA37 ,  2H049AA40 ,  2H049AA43 ,  2H049AA48 ,  2H049BA02 ,  2H049BA08 ,  2H049BA45 ,  2H049BB44 ,  2H049BB46 ,  2H049BB47 ,  2H049BB63 ,  2H049BC01 ,  2H049BC05 ,  2H049BC08 ,  4F209AA21 ,  4F209AD03 ,  4F209AD08 ,  4F209AD20 ,  4F209AF01 ,  4F209AG03 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209AJ08 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC05 ,  4F209PG14 ,  4F209PQ11 ,  4F209PW31 ,  5F046AA28
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (4)
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