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J-GLOBAL ID：200903051463910560

ウェハ支持部材

Inventor：
口町 和一

About 口町 和一


Applicant, Patent owner：
京セラ株式会社

About 京セラ株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001293034
Publication number (International publication number)：2003100856
Application date： Sep. 26, 2001
Publication date： Apr. 04, 2003
Summary：
【要約】【課題】ウェハの昇温時間及び冷却時間を効果的に短縮することが可能なウェハ支持部材を提供する。【解決手段】ウェハ支持部材1を、板状セラミック体2の載置面4と反対側の表面近傍に静電吸着用電極5を埋設したウェハステージ2と、導電性プレート8と、リフト機構12とから構成し、上記板状セラミック体2の下面にはガス溝7を形成するとともに、上記導電性プレート8には上記ガス溝7と連通するガス導入孔10を設け、載置面4に載せたウェハWを加熱する時には、リフト機構12によってウェハステージ2を導電性プレート8より切り離し、載置面4に載せたウェハWを冷却する時には、リフト機構12によってウェハステージ2を導電性プレート8に当接させるとともに、静電吸着用電極5に通電して静電吸着力を発現させ、ウェハステージ2を導電性プレート8に吸着固定させ、かつガス導入孔10よりガス溝7に不活性ガスを供給する。
Claim (excerpt)：
板状セラミック体の上面をウェハを載せる載置面とし、上記板状セラミック体中の下面側近傍に静電吸着用電極を埋設したウェハステージと、上記板状セラミック体の下面側に配置される導電性プレートと、上記ウェハステージを導電性プレートより切り離すリフト機構とを有し、上記板状セラミック体の下面及び/又は上記導電性プレートの上面にはガス溝を備えるとともに、上記導電性プレートには上記ガス溝と連通するガス導入孔を備え、上記ウェハステージの載置面に載せたウェハを加熱する時には、上記リフト機構によってウェハステージを導電性プレートより切り離し、かつ上記ウェハステージの載置面に載せたウェハを冷却する時には、上記リフト機構によってウェハステージを導電性プレートに当接させた状態で上記静電吸着用電極に通電して導電性プレートとの間に静電吸着力を発現させ、上記ウェハステージと上記導電性プレートとを強制的に吸着固定させるとともに、上記ガス導入孔よりガス溝に不活性ガスを供給するようにしたことを特徴とするウェハ支持部材。
IPC (2)：
H01L 21/68 ,  C23C 16/458
FI (2)：
H01L 21/68 R ,  C23C 16/458
F-Term (19)：
4K030CA04 ,  4K030CA06 ,  4K030CA12 ,  4K030GA02 ,  4K030JA03 ,  4K030KA23 ,  4K030KA46 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031HA02 ,  5F031HA19 ,  5F031HA33 ,  5F031HA37 ,  5F031HA38 ,  5F031HA40 ,  5F031MA26 ,  5F031MA28 ,  5F031MA32 ,  5F031NA04
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
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