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J-GLOBAL ID:200903053562667735

チャンバー開放型蛍光X線分析装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 坂上 正明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001048261
Publication number (International publication number):2001349852
Application date: Feb. 23, 2001
Publication date: Dec. 21, 2001
Summary:
【要約】【課題】 チャンバー開放型蛍光X線分析装置において、試料中の軽元素の安定な定性・定量分析を可能とする。【解決手段】 開放型チャンバーにヘリウム挿入口、開放部に軽元素フィルム着脱機構、チャンバー内気体出口を設け、ヘリウムガスを流し込むことによって、チャンバー内をX線吸収率の小さいヘリウムガス濃度の高い安定な状態に置換した。
Claim (excerpt):
X線源とX線検出器と開放型チャンバーを有する蛍光X線分析装置において、前記開放型チャンバーにチャンバー内気体置換用のヘリウム挿入口と、前記開放型チャンバーの当該開放部分にX線の透過率が高い軽元素フィルム着脱機構と、チャンバー内気体出口を設けたことを特徴とするチャンバー開放型蛍光X線分析装置。
F-Term (14):
2G001AA01 ,  2G001BA04 ,  2G001CA01 ,  2G001EA06 ,  2G001GA01 ,  2G001KA01 ,  2G001NA06 ,  2G001NA16 ,  2G001NA17 ,  2G001PA07 ,  2G001PA30 ,  2G001SA02 ,  2G001SA29 ,  2G001SA30
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
  • スラグ分析方法および装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平10-057457   Applicant:川崎製鉄株式会社
  • 蛍光X線分析装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平8-297178   Applicant:株式会社堀場製作所
  • 蛍光X線分析装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-052470   Applicant:株式会社島津製作所
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Article cited by the Patent:
Cited by examiner (1)

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