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J-GLOBAL ID:200903053886999846
窒化物化合物半導体発光素子
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
佐藤 一雄 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998036263
Publication number (International publication number):1998294531
Application date: Feb. 18, 1998
Publication date: Nov. 04, 1998
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】 接触抵抗が低くさらに良好なワイアボンディングができる電極を有する窒化物化合物半導体発光素子を提供する。【解決手段】 電流阻止層111を、所定の金属の酸化物、炭素.p型およびn型の導電性を示す不純物を含むn型のB(1-x-y-z) InX Aly Gaz N単結晶層(0≦x,y,z≦1)、水素または酸素によってキャリアが不活性化されてなるi型B(1-x-y-z) InX Aly Gaz N単結晶層(0≦x,y,z≦1)のいずれかの材料にしたため、ドライエッチンクプロセスを不要とした内部電流狭窄構造を実現する。または、逆バイアス電圧を印加することにより、電流経路に沿って半導体層を活性化することができ、それ以下の領域を電流ブロック層として作用させることができる。
Claim (excerpt):
電流阻止層を備えた窒化物化合物半導体発光素子であって、前記電流阻止層は、チタン(Ti)、マグネシウム(Mg)、ニッケル(Ni)、クロム(Cr)、スカンジウム(Sc)、亜鉛(Zn)、インジウム(In)、錫(Sn)、タングステン(W)からなる群から選ばれた金属の酸化物からなることを特徴とする窒化物化合物半導体発光素子。
IPC (2):
FI (2):
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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窒化物半導体の電極
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-082428
Applicant:日亜化学工業株式会社
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特開平3-094490
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半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-176033
Applicant:株式会社東芝
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半導体レーザ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-239252
Applicant:ローム株式会社
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窒化ガリウム系化合物半導体レーザ素子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-222920
Applicant:日亜化学工業株式会社
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窒化ガリウム系半導体素子及び窒化ガリウム系半導体発光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-025003
Applicant:株式会社東芝
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特開昭62-134986
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特開昭63-222489
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化合物半導体装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-025762
Applicant:富士通株式会社
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