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J-GLOBAL ID：200903054509481413

薬液処理装置およびそれを用いたデバイスの製造方法

Inventor：
登坂 久雄

About 登坂 久雄


Applicant, Patent owner：
カシオ計算機株式会社

About カシオ計算機株式会社


Agent (1)： 花輪 義男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001138200
Publication number (International publication number)：2002334865
Application date： May. 09, 2001
Publication date： Nov. 22, 2002
Summary：
【要約】【課題】 アルミニウムのエッチング液(硝酸、酢酸、凛さか、水からなる混酸)中の硝酸濃度を、サンプリングポンプを用いずに、検出する。【解決手段】 薬液タンク42内の薬液(混酸)43は、薬液ポンプ51の駆動により、薬液配管50を介して処理室44内のシャワー49に供給される。また、薬液タンク42内の薬液43は、薬液ポンプ51よりも後段側における薬液配管50から分岐されたサンプリング配管52を介して、薬液43中の硝酸濃度を検出するための吸光光度計53に供給される。
Claim (excerpt)：
薬液タンク内の薬液を薬液ポンプが介在された薬液配管を介して処理室内に供給し、使用後の薬液を前記薬液タンク内に回収して再使用し、且つ、前記薬液中の一の液の濃度を濃度検出手段で検出し、この検出濃度が設定濃度よりも低いとき前記薬液タンク内に少なくとも前記一の液を補給する薬液処理装置において、前記濃度検出手段は、前記薬液ポンプよりも後段側における前記薬液配管から分岐されたサンプリング配管に設けられていることを特徴とする薬液処理装置。
IPC (6)：
H01L 21/306 ,  B05C 11/10 ,  B05D 3/10 ,  B05D 7/00 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/027
FI (9)：
B05C 11/10 ,  B05D 3/10 C ,  B05D 3/10 N ,  B05D 7/00 H ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/306 J ,  H01L 21/30 569 A ,  H01L 21/30 572 B ,  H01L 21/306 F
F-Term (33)：
2H096AA25 ,  2H096HA18 ,  2H096LA02 ,  2H096LA30 ,  4D075AC01 ,  4D075BB20Z ,  4D075BB66Z ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DC22 ,  4D075EA05 ,  4D075EB01 ,  4F042AA02 ,  4F042AA07 ,  4F042CC01 ,  4F042CC04 ,  4F042CC09 ,  4F042CC10 ,  4F042CC12 ,  4F042ED05 ,  5F043AA24 ,  5F043BB16 ,  5F043CC16 ,  5F043EE23 ,  5F043EE24 ,  5F043EE28 ,  5F043EE29 ,  5F043EE33 ,  5F046LA03 ,  5F046LA14 ,  5F046MA06 ,  5F046MA10
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
  • レジスト剥離液管理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-193005   Applicant：株式会社平間理化研究所, 長瀬産業株式会社
  • レジスト剥離液管理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-333249   Applicant：株式会社平間理化研究所, 長瀬産業株式会社
  • 処理装置及び処理方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-191918   Applicant：東京エレクトロン株式会社
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