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J-GLOBAL ID:200903055101544685
アルカリ金属を含むシリサイド組成物およびその製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (4):
田中 光雄
, 山田 卓二
, 山本 宗雄
, 後藤 裕子
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2007516608
Publication number (International publication number):2008502575
Application date: Jun. 14, 2005
Publication date: Jan. 31, 2008
Summary:
本発明は、アルカリ金属とケイ素とを混合する工程および、生じる混合物を温度約475°C以下に加熱する工程を包含する、アルカリ金属シリサイド組成物の製造方法、およびこの方法による組成物に関する。生じる組成物はドライO2と反応しない。更に、本発明は約18.2、28.5、29.5、33.7、41.2、47.4、および56.2から選択される2θ角を有する少なくとも三つのピークを含有する粉末X線回折図形および約18 ppmにおいて固体状態23Na MAS NMRスペクトルピークを有するナトリウムシリサイド組成物にも関する。更に、本発明は制御された方法で揮発性または引火性物質を除去する方法にも関する。更に、本発明によるアルカリ金属シリサイド組成物は水と反応して水素ガスを発生させる。
Claim (excerpt):
アルカリ金属と粉末ケイ素とを不活性雰囲気中で混合する工程および
生じる混合物を温度約475°C以下に加熱する工程
からの生成物を含有し、ドライO2と反応しない、アルカリ金属シリサイド組成物。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (9):
4G072AA20
, 4G072GG02
, 4G072GG03
, 4G072HH01
, 4G072JJ08
, 4G072MM02
, 4G072MM40
, 4G072RR13
, 4G072TT30
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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特許第6191059号
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特開平1-249619
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シリサイドを製造する方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-104307
Applicant:住友重機械工業株式会社
-
クラスレート化合物薄膜の作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-105106
Applicant:日本電気株式会社
-
クラスレート化合物半導体およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-153760
Applicant:石川島播磨重工業株式会社, 円谷和雄
-
珪化鉄粉末及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-265478
Applicant:株式会社日鉱マテリアルズ
-
アルカリ金属とアルカリ金属合金を含有するシリカゲル組成物
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2006-541648
Applicant:マイケル・レフェンフェルド, ジェイムズ・エル・ダイ
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クラスター及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-130158
Applicant:工業技術院長, 金山敏彦, 日本電気株式会社
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Article cited by the Patent:
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