基板検査装置及び基板検査方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：佐藤一雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999005610
Publication number (International publication number)：2000208395
Application date： Jan. 12, 1999
Publication date： Jul. 28, 2000
Summary：

【要約】【課題】出射電子ビームをX、Y及びθの3方向で調整できる基板検査装置及び基板検査方法を提供する。【解決手段】陰極2をX,Y及びθの3方向で移動可能な陰極ステージ1及びその制御部3と、電子ビーム8をビーム軸を中心に回転可能な電磁コイル7及びその制御部18と、電子ビーム8の電流値を測定するファラデーカップ13及び電流計35と、補正量演算回路15とを備え、試料ステージ14の移動により電子ビーム8を所定の領域でファラデーカップ13に照射して各座標毎に電子ビーム8の電流値を測定し、この電流値のうち、所定のしきい値Is以上の電流値の2次元分布を算出し、この2次元分布の重心に基づいて電子ビーム8の軸ずれ(X,Y)を算出して軸ずれ補正量を陰極ステージ制御部3に供給し、上記2次元分布の回帰直線の傾きに基づいて回転ずれ(θ)を算出して回転ずれ補正量を陰極ステージ制御部3及び電磁コイル制御部18に供給する。

Claim (excerpt)：

試料である基板に電子ビームを出射する電子ビーム出射手段と、前記電子ビームの照射面の形状と、これに対応する前記基板上面の検査領域との間で位置ずれが生じた場合に、前記電子ビームの軸ずれ(X,Y)と回転ずれ(θ)をそれぞれ検出する軸ずれ検出手段と回転ずれ検出手段と、前記軸ずれ検出手段の検出結果に基づいて前記電子ビームの軸ずれ(X,Y)を補正する軸ずれ補正手段と、前記回転ずれ検出手段の検出結果に基づいて前記電子ビームの回転ずれ(θ)を補正する回転ずれ補正手段と、前記電子ビームの出射により前記基板の表面から発生する2次電子及び反射電子を二次ビームとして拡大投影して結像する電子光学系と、前記電子光学系により結像された前記二次ビームを検出して二次元電子像を出力する二次ビーム検出手段と、を備えたことを特徴とする基板検査装置。

IPC (6)：

H01L 21/027 , G01N 23/225 , G03F 1/08 , H01J 37/04 , H01J 37/22 502 , H01L 21/66

FI (6)：

H01L 21/30 502 V , G01N 23/225 , G03F 1/08 S , H01J 37/04 B , H01J 37/22 502 C , H01L 21/66 C

F-Term (33)：

2G001AA03 , 2G001BA07 , 2G001BA15 , 2G001DA09 , 2G001FA06 , 2G001FA18 , 2G001GA06 , 2G001GA11 , 2G001JA02 , 2G001JA03 , 2G001JA11 , 2G001JA20 , 2G001LA11 , 2G001PA11 , 2G001SA01 , 2H095BD04 , 2H095BD05 , 2H095BD14 , 2H095BD20 , 4M106AA01 , 4M106BA02 , 4M106CA38 , 4M106DB05 , 4M106DB20 , 4M106DB21 , 4M106DB30 , 4M106DJ03 , 4M106DJ04 , 4M106DJ14 , 5C030AA04 , 5C030AA07 , 5C030AA09 , 5C030AB02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

画像検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-001356 Applicant：株式会社ニコン
電子線描画装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-008837 Applicant：株式会社日立製作所, 日立計測エンジニアリング株式会社
特開平1-217842

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