光計測装置および光計測方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：松下亮
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007319704
Publication number (International publication number)：2008292448
Application date： Dec. 11, 2007
Publication date： Dec. 04, 2008
Summary：

【課題】サンプルの形状情報を正確に計測することができる光計測装置を提供する。【解決手段】光計測装置は、流路内を流れる液体に分散させたサンプルに対して光を照射することで、前記サンプルの光情報を測定するために用いられ、液体11に照射光Lを照射する光源部20と、照射光に対してサンプルSの相対位置が等速で変化される状態で、光源部20の照射光を液体に照射して、液体を透過した照射光を含むサンプルSの光情報を受光して受光信号SG1を発生する受光部31と、サンプルによる受光信号の変動を測定する測定部120と、を備える。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

液体に分散させたサンプルに対してシングルモード光を照射することで、前記サンプルの光情報を測定するための光計測装置であり、前記液体に前記照射光を照射する光源部と、前記照射光に対して前記サンプルの相対位置が等速で変化される状態で、前記光源部の前記照射光を前記液体に照射して、前記液体を透過した前記照射光を含む前記サンプルの光情報を受光して受光信号を発生する受光部と、前記サンプルによる前記受光信号の変動を測定する測定部と、測定信号からサンプルの大きさ、形状、内部構造を解析する制御部を備えることを特徴とする光計測装置。

IPC (6)：

G01N 15/14 , G01N 21/49 , G01N 21/64 , G01N 33/49 , G01B 11/02 , G01B 11/24

FI (9)：

G01N15/14 C , G01N21/49 A , G01N21/64 Z , G01N15/14 P , G01N15/14 Q , G01N15/14 K , G01N33/49 H , G01B11/02 Z , G01B11/24 Z

F-Term (65)：

2F065AA26 , 2F065AA51 , 2F065BB15 , 2F065BB30 , 2F065FF02 , 2F065FF41 , 2F065FF42 , 2F065GG04 , 2F065GG06 , 2F065HH15 , 2F065JJ01 , 2F065JJ03 , 2F065JJ15 , 2F065JJ17 , 2F065JJ18 , 2F065JJ26 , 2F065QQ17 , 2F065QQ41 , 2G043AA03 , 2G043BA16 , 2G043CA04 , 2G043EA01 , 2G043EA13 , 2G043EA14 , 2G043GA07 , 2G043GB02 , 2G043GB05 , 2G043HA05 , 2G043KA01 , 2G043KA02 , 2G043KA03 , 2G043KA09 , 2G043LA03 , 2G043NA01 , 2G045AA03 , 2G045AA04 , 2G045BB20 , 2G045CA25 , 2G045FA14 , 2G045FA19 , 2G045FA29 , 2G045FB12 , 2G045GA01 , 2G045GB01 , 2G045GC10 , 2G045GC11 , 2G045GC15 , 2G045JA01 , 2G045JA07 , 2G059AA05 , 2G059BB13 , 2G059BB14 , 2G059EE01 , 2G059EE02 , 2G059EE07 , 2G059FF01 , 2G059FF04 , 2G059GG01 , 2G059HH01 , 2G059HH02 , 2G059HH03 , 2G059JJ17 , 2G059KK04 , 2G059MM01 , 2G059MM04

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (8)

特許第2973387号公報
粒径分布測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-042383 Applicant：株式会社堀場製作所
粒子分析装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-389350 Applicant：シスメックス株式会社

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Cited by examiner (8)

粒径分布測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-042383 Applicant：株式会社堀場製作所
キャピラリー式光検出センサ及びこれを用いた光計測装置及び懸濁液中の微粒子測定方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-104865 Applicant：株式会社ユアテック, 東京特殊電線株式会社, 鈴木均, 佐々木洋
粒子分析装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-389350 Applicant：シスメックス株式会社

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