Pat
J-GLOBAL ID:200903067481910628
粒径分布測定装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
藤本 英夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001042383
Publication number (International publication number):2002243623
Application date: Feb. 19, 2001
Publication date: Aug. 28, 2002
Summary:
【要約】【課題】 感度低下が生じる粒子径領域をなくして、測定精度や分解能が他の粒子径領域に比べて劣る粒子径領域をなくすことにより測定結果の精度や信頼性を高くすることができる粒径分布測定装置を提供する。【解決手段】 粒子を収容するセル2と、セル2に対して複数波長のレーザ光La,Lbを照射する光源部3と、セル2を透過する直進光Laおよび各散乱角度の散乱光Lasの強度を測定する検出器5a,5bと、測定全範囲において一つの波長のレーザ光Laでは感度が低い粒子径域Haを別の波長のレーザ光Lbを用いて補完して粒径分布F(j)を求める演算部9とを有する。
Claim (excerpt):
粒子を収容するセルと、セルに対して複数波長のレーザ光を照射する光源部と、セルを透過する直進光および各散乱角度の散乱光の強度を測定する検出器と、測定全範囲において一つの波長のレーザ光では感度が低い粒子径域を別の波長のレーザ光を用いて補完して粒径分布を求める演算部とを有することを特徴とする粒径分布測定装置。
IPC (3):
G01N 15/02
, G01B 11/08
, G01N 21/47
FI (3):
G01N 15/02 A
, G01B 11/08 Z
, G01N 21/47 A
F-Term (31):
2F065AA26
, 2F065BB07
, 2F065CC00
, 2F065FF42
, 2F065FF48
, 2F065GG04
, 2F065HH02
, 2F065HH15
, 2F065JJ03
, 2F065JJ26
, 2F065LL30
, 2F065QQ17
, 2F065QQ21
, 2F065QQ32
, 2G059AA03
, 2G059AA05
, 2G059BB06
, 2G059BB09
, 2G059CC19
, 2G059EE01
, 2G059EE02
, 2G059EE11
, 2G059GG01
, 2G059GG03
, 2G059HH02
, 2G059HH06
, 2G059JJ11
, 2G059JJ23
, 2G059KK03
, 2G059MM01
, 2G059PP04
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
-
粒径分布測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-294333
Applicant:株式会社堀場製作所
-
特開昭59-160741
-
ラマン分光分析と粒度分布測定を同時に行う分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-138049
Applicant:株式会社堀場製作所
-
粒子径分布測定装置および粒子径分布測定方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-266182
Applicant:株式会社堀場製作所
-
微粒子測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-268910
Applicant:株式会社日立製作所
-
異物検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-109215
Applicant:三菱電機株式会社
-
特開昭59-160741
-
特開昭59-160741
Show all
Return to Previous Page