眼底観察装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：特許業務法人三澤特許事務所 , 三澤正義
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008131095
Publication number (International publication number)：2009279031
Application date： May. 19, 2008
Publication date： Dec. 03, 2009
Summary：

【課題】検査時間の短縮を図ることが可能な眼底観察装置を提供する。【解決手段】眼底観察装置1は、眼底Efに対して信号光を走査し干渉光を生成し、この干渉光の検出信号に基づいて眼底Efの断層画像を形成するOCT装置として作用する。また、眼底観察装置1は、眼底Efの断層画像に描写された眼底Efの特徴部位を特定し、更に、断層画像のフレーム内における特徴部位の位置に基づいて、特徴部位をフレーム内の中心位置に描写させるように信号光の照射位置を変更して本計測を実行することにより、眼底Efの断層画像や3次元画像を形成する。このように、眼底Efの計測位置の位置合わせを自動で行えるようにすることにより、検査時間の短縮を図ることが可能となる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

低コヒーレンス光を信号光と参照光とに分割し、被検眼の眼底を経由した前記信号光と参照物体を経由した参照光とを干渉させて干渉光を生成する光学系と、前記生成された干渉光を検出して検出信号を生成する検出手段と、前記眼底に対する前記信号光の照射位置を走査する走査手段と、前記走査に伴い前記生成される複数の前記検出信号に基づいて前記眼底の断層画像を形成する画像形成手段と、前記形成された断層画像に描写された前記眼底の特徴部位を特定する特定手段と、前記断層画像のフレーム内における前記特定された特徴部位の位置に基づいて、前記特徴部位を前記フレーム内の所定位置に描写させるように前記走査手段を制御して前記信号光の照射位置を変更する制御手段と、を備えることを特徴とする眼底観察装置。

IPC (2)：

A61B 3/14 , G01N 21/17

FI (3)：

A61B3/14 A , A61B3/14 B , G01N21/17 620

F-Term (13)：

2G059AA05 , 2G059BB12 , 2G059EE09 , 2G059FF02 , 2G059GG02 , 2G059HH01 , 2G059HH02 , 2G059JJ11 , 2G059JJ13 , 2G059JJ17 , 2G059JJ22 , 2G059KK04 , 2G059PP04

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

スペクトル干渉に基づく光学・トモグラフィ-および光学表面プロファイル測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-082817 Applicant：カールツァイスイエナゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
光断層画像取得装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-334096 Applicant：富士写真フイルム株式会社
光断層画像表示システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-207140 Applicant：サンテック株式会社

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Cited by examiner (1)

眼底観察装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-106935 Applicant：株式会社トプコン

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