高分子ゲル組成物及びその製造方法、並びに、前記高分子ゲル組成物を用いた光学素子

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：中島淳 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001060783
Publication number (International publication number)：2002258001
Application date： Mar. 05, 2001
Publication date： Sep. 11, 2002
Summary：

【要約】【課題】長期間使用しても刺激に対する応答性が低下することを抑制するような、刺激応答の耐久性を有する高分子ゲル組成物及びその製造方法、並びに、前記高分子ゲル組成物を用いた光学素子を提供することを目的とする。【解決手段】刺激の付与により液体を吸収・放出して体積変化を生ずる高分子ゲルと、該高分子ゲル内及び/又は該高分子ゲル外に位置する前記液体と、該液体と前記高分子ゲルとを含む領域を覆う隔離部材と、から構成される高分子ゲル組成物であって、更に、該高分子ゲル組成物の周囲を囲み、かつ、前記液体の蒸発を防止する蒸発防止部材が設けられることを特徴とする高分子ゲル組成物、及びその製造方法、並びに、前記高分子ゲル組成物を用いた光学素子。

Claim (excerpt)：

刺激の付与により液体を吸収・放出して体積変化を生ずる高分子ゲルと、該高分子ゲル内及び/又は該高分子ゲル外に位置する前記液体と、該液体と前記高分子ゲルとを含む領域を覆う隔離部材と、から構成される高分子ゲル組成物であって、更に、該高分子ゲル組成物の周囲を囲み、かつ、前記液体の蒸発を防止する蒸発防止部材が設けられることを特徴とする高分子ゲル組成物。

IPC (5)：

G02B 1/04 , C08K 5/00 , C08L101/14 , G02B 1/10 , G02B 5/02

FI (5)：

G02B 1/04 , C08K 5/00 , C08L101/14 , G02B 5/02 B , G02B 1/10 Z

F-Term (26)：

2H042BA02 , 2H042BA15 , 2H042BA20 , 2K009BB11 , 2K009BB14 , 2K009BB24 , 2K009BB25 , 2K009BB28 , 2K009CC01 , 2K009CC14 , 2K009CC42 , 2K009DD01 , 2K009EE00 , 4J002BG011 , 4J002BG071 , 4J002BG131 , 4J002BH021 , 4J002BQ001 , 4J002DA036 , 4J002DA066 , 4J002DE136 , 4J002EE056 , 4J002EQ016 , 4J002EU006 , 4J002FD096 , 4J002GB00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (15)

高分子ゲル組成物、その製造方法及びそれを用いた光学素子
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-048822 Applicant：富士ゼロックス株式会社
感温性遮光フィルムの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-031648 Applicant：松下電工株式会社
カラー表示素子
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-059187 Applicant：富士ゼロックス株式会社

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

「シリコーンハンドブック」, 19900831, 初版, p.55-76

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