誘導結合型プラズマ発生用アンテナ装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：前田均 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000192572
Publication number (International publication number)：2001085196
Application date： Jun. 27, 2000
Publication date： Mar. 30, 2001
Summary：

【要約】【課題】この発明の目的は、大面積の試料を加工できる大仕掛のプラズマを発生するためのアンテナ装置を提供することにある。【解決手段】上記のような目的を達成するためになされたこの発明は、大仕掛のプラズマを生成するためのプラズマ発生装置のためのアンテナ装置において、高周波電源と、該高周波電源から高周波電力を供給される第1のアンテナと、前記高周波電源から高周波電力を供給されて前記第1のアンテナに並列接続されるが、該第1のアンテナとの間で共振状態を保つ第2のアンテナとを含むことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

大仕掛のプラズマを生成するためのプラズマ発生装置のためのアンテナ装置において、高周波電源と、該高周波電源から高周波電力を供給される第1のアンテナと、前記高周波電源から高周波電力を供給されて前記第1のアンテナに並列接続されるが、該第1のアンテナとの間で共振状態を保つ第2のアンテナとを含むことを特徴とするプラズマ発生装置のためのアンテナ装置。

IPC (4)：

H05H 1/46 , C23C 16/507 , H01L 21/205 , H01L 21/3065

FI (5)：

H05H 1/46 L , H05H 1/46 R , C23C 16/507 , H01L 21/205 , H01L 21/302 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-202840 Applicant：国際電気株式会社
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-060448 Applicant：株式会社日立製作所
プラズマ装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-013981 Applicant：東京エレクトロン株式会社

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