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J-GLOBAL ID:200903057214418930
表面検査方法及び装置並びにデバイス製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
社本 一夫 (外5名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000340651
Publication number (International publication number):2002148227
Application date: Nov. 08, 2000
Publication date: May. 22, 2002
Summary:
【要約】【課題】スループットを大きくする等のため照射電流値を増加する場合にも試料表面の帯電量を適切に制御することができ、歪の小さい鮮明な画像データが取得され、信頼性の高い検査を行うことができる表面検査方法及び装置を提供する。【解決手段】 表面検査装置は、荷電粒子ビーム2を試料10に照射するビーム源1と、試料表面からの荷電粒子を検出部する検出部18とを備える。試料10の表面が所定の電気抵抗値を有する抵抗膜42により被覆され、荷電粒子ビーム2が試料10に照射され、試料表面から発生される二次荷電粒子等が検出部18により検出される。
Claim (excerpt):
荷電粒子ビームを試料表面に照射し試料表面から発生する二次荷電粒子を検出することにより試料表面の状態を検査する表面検査方法であって、試料表面に所定の電気抵抗値を有する薄膜からなる抵抗膜を被覆する工程、抵抗膜を被覆した試料表面に荷電粒子ビームを照射し試料表面から発生する二次荷電粒子を検出する工程、及び試料表面から抵抗膜を除去する工程を含むことを特徴とする表面検査方法。
IPC (6):
G01N 23/225
, H01J 37/147
, H01J 37/22 502
, H01J 37/244
, H01J 37/28
, H01L 21/66
FI (6):
G01N 23/225
, H01J 37/147 B
, H01J 37/22 502 F
, H01J 37/244
, H01J 37/28 B
, H01L 21/66 J
F-Term (25):
2G001AA03
, 2G001BA07
, 2G001CA03
, 2G001GA01
, 2G001GA06
, 2G001GA12
, 2G001HA13
, 2G001JA02
, 2G001JA03
, 2G001KA01
, 2G001KA03
, 2G001LA11
, 2G001MA05
, 2G001RA08
, 2G001RA20
, 4M106AA01
, 4M106BA02
, 4M106BA11
, 4M106CA38
, 4M106DB05
, 4M106DB30
, 4M106DJ11
, 5C033FF03
, 5C033NN01
, 5C033UU06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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