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J-GLOBAL ID：200903057788157271

走査プローブ顕微鏡の探針を用いた加工方法

Inventor： 高岡 修 ,  安武 正敏 ,  脇山 茂 ,  渡邉 直哉
Applicant, Patent owner： エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社
Agent (1)： 松下 義治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004154059
Publication number (International publication number)：2005334986
Application date： May. 25, 2004
Publication date： Dec. 08, 2005
Summary：

【課題】 走査プローブ顕微鏡を応用した加工機の高精度な加工を可能にする。【解決手段】 微細なマーカを被加工物質よりも硬い探針4を押しこむことで作製し、加工の途中で形成した微細マーカ5を観察してその穴の重心の位置変化からドリフト量を求め、ドリフト分を補正した加工領域で加工を再開する。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

走査プローブ顕微鏡の探針を用いた加工方法であって、前記探針による加工領域近傍に被加工物質よりも硬い前記探針を押しこむことで微細マーカを作製し、前記探針による加工途中で前記微細マーカの位置を検出してそのドリフト量を算出して前記ドリフト量分前記加工領域位置を補正することを特徴とする走査プローブ顕微鏡の探針を用いた加工方法。

IPC (3)：

B82B3/00 ,  B81C5/00 ,  G01N13/10

FI (3)：

B82B3/00 ,  B81C5/00 ,  G01N13/10 A

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 特公平5-4660号公報(第2頁、第11図)
  

Cited by examiner (8)

• SPM装置又はSPMの原理を応用した加工装置・記録再生装置等に用いるマーカー及びマーカー検出方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-145227   Applicant：キヤノン株式会社
• 情報処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-173936   Applicant：キヤノン株式会社
• 特公平5-004660
  
• 磁気特性の評価方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-268525   Applicant：長谷山美紀, 株式会社クボタ
• 基板の評価方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-263731   Applicant：東芝マイクロエレクトロニクス株式会社, 株式会社東芝
• マルチプローブ型走査プローブ顕微鏡装置およびそれを用いた試料表面評価方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-332452   Applicant：シャープ株式会社
• 微細加工方法および微細加工装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-161937   Applicant：キヤノン株式会社
• 原子間力顕微鏡を用いた微細加工方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-319361   Applicant：エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• “Direct Measurement of Surface Diffusion Using Atom-Tracking Scanning Tunneling Microscopy”