Pat
J-GLOBAL ID：200903058092237919

エネルギー活性なスルホニウム塩及びその用途

Inventor：
釜淵 明

About 釜淵 明

, 
高田 佳幸

About 高田 佳幸


Applicant, Patent owner：
住友化学工業株式会社

About 住友化学工業株式会社


Agent (3)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002360330
Publication number (International publication number)：2004026789
Application date： Dec. 12, 2002
Publication date： Jan. 29, 2004
Summary：
【課題】酸性度の強いアニオン種を有する新規なスルホニウム塩を提供するとともに、これと樹脂成分とを含有し、エキシマレーザーリソグラフィに適し、孤立パターンの解像性に優れた化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】〔1〕下式(I’)で示されるスルホニウム塩。(式中、Qは、記載のS+とともに環を完成する炭素数3〜7の脂環式炭化水素基を表す。Q3は、水素原子を表し、Q4はC1〜6のアルキル基、C3〜10のシクロアルキル基、C6〜14のアリール基を表すか、又はQ3とQ4が結合して隣接するCHC(O)基と一緒になって2-オキソシクロアルキル基を表す。Q5、Q6はC1〜4のパーフルオロアルキル基を表す。)〔2〕、前記〔1〕に記載のスルホニウム塩と酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる樹脂と、を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
下式(I)で示されるスルホニウム塩。
IPC (5)：
C07C381/12 ,  C07C311/48 ,  C07D333/46 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039
FI (5)：
C07C381/12 ,  C07C311/48 ,  C07D333/46 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601
F-Term (15)：
2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB76
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM