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J-GLOBAL ID:200903099807166168
感刺激性組成物及び化合物
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002231536
Publication number (International publication number):2003140331
Application date: Aug. 08, 2002
Publication date: May. 14, 2003
Summary:
【要約】【課題】 感度及び解像力に優れた感刺激性組成物を提供する。【解決手段】(A)外部からの刺激により酸又はラジカルを発生する特定の化合物を含有することを特徴とする感刺激性組成物。
Claim (excerpt):
(A)外部からの刺激により酸又はラジカルを発生する下記一般式(I)又は(II)で表される化合物を含有することを特徴とする感刺激性組成物。【化1】一般式(I)及び(II)中、R1〜R3は、同じでも異なっていてもよく、水素原子又は置換基を有していてもよい、アルキル基、アルケニル基、アリール基若しくはアルコキシ基を表す。R4及びR5は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、シアノ基又は置換基を有していてもよい、アルキル基、アリール基若しくはアルコキシ基を表す。Y1及びY2は、同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい、アルキル基、アリール基、アラルキル基又はヘテロ原子を含む芳香族基を表す。nは、1〜4の整数を表す。nが2以上の場合に複数個存在するR1及びR2は、同じでも異なっていてもよい。R1〜R3、R4、R5、Y1及びY2の内のいずれか2つ以上が結合して環構造を形成してもよい。また、R1〜R3、R4、R5、Y1及びY2のいずれかの位置で、連結基を介して結合し、一般式(I)又は(II)の構造を2つ以上有していてもよい。X-は、非求核性アニオンを表す。
IPC (4):
G03F 7/004 503
, G03F 7/038 601
, G03F 7/039 601
, H01L 21/027
FI (4):
G03F 7/004 503 A
, G03F 7/038 601
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
F-Term (20):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB08
, 2H025CB10
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CB45
, 2H025CC04
, 2H025CC17
, 2H025CC20
, 2H025FA17
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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光酸発生剤、化学増幅レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-347900
Applicant:日本電気株式会社
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化学増幅型ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-352700
Applicant:住友化学工業株式会社
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ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-029257
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-033621
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
電子線またはX線用化学増幅系ネガ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-358022
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
多層型感光材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-254535
Applicant:東京応化工業株式会社
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特許第4145017号
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