研磨用粒子および研磨材

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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：石田政久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002087739
Publication number (International publication number)：2003277732
Application date： Mar. 27, 2002
Publication date： Oct. 02, 2003
Summary：

【要約】【課題】アルカリ金属による不具合を生じることのないコア・シェル構造を有する研磨用粒子である。【解決手段】研磨用粒子は、平均粒子径(D)が5〜300nmの範囲にあるコア・シェル構造を有し、シェル部の厚さ(ST )が1〜50nmの範囲にあるシリカを主成分とするシリカ系複合酸化物からなる。シェル部1g当たり0. 1〜3meqのイオン交換点を有することが望ましい。

Claim (excerpt)：

平均粒子径(D)が5〜300nmの範囲にあるコア・シェル構造を有し、シェル部の厚さ(ST )が1〜50nmの範囲にある複合酸化物からなることを特徴とする研磨用粒子。

IPC (5)：

C09K 3/14 550 , B24B 37/00 , B24D 3/00 320 , B24D 3/00 330 , H01L 21/304 622

FI (5)：

C09K 3/14 550 D , B24B 37/00 H , B24D 3/00 320 A , B24D 3/00 330 C , H01L 21/304 622 B

F-Term (14)：

3C058AA07 , 3C058CA01 , 3C058CB02 , 3C058DA02 , 3C058DA12 , 3C063AA01 , 3C063AB01 , 3C063BB01 , 3C063BB03 , 3C063BB14 , 3C063CC01 , 3C063EE10 , 3C063EE26 , 3C063FF23

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (10)

特開昭61-209910
銅の化学機械研磨用水系分散体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-190799 Applicant：株式会社東芝, ジェイエスアール株式会社
高純度シリカの製造方法および利用方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-246875 Applicant：強化土エンジニヤリング株式会社

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Cited by examiner (11)

セラミック砥粒及びその製造方法並びに研磨製品
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-286090 Applicant：日本研磨材工業株式会社
半導体基板上の金属膜研磨用組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-116864 Applicant：旭化成株式会社
特開昭61-209910

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