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J-GLOBAL ID：200903058847374652

洗浄処理装置

Inventor：
本田 儀幸

About 本田 儀幸


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社

, 
東京エレクトロン九州株式会社

About 東京エレクトロン九州株式会社


Agent (1)： 中本 菊彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995250218
Publication number (International publication number)：1997074078
Application date： Sep. 04, 1995
Publication date： Mar. 18, 1997
Summary：
【要約】【課題】 被処理体を安定保持した状態で洗浄処理し、被処理体と処理液とを均一に接触させて処理能率の向上及び歩留りの向上を図ること。【解決手段】 処理槽15A内に複数のウエハWを並列に立設させ処理液に浸漬させた状態で保持するウエハボート30を、ウエハWの両側下部をそれぞれ保持する第1及び第2の保持棒32,33と、ウエハWに設けられたオリフラWoの両側近傍をそれぞれ保持する第3及び第4の保持棒34,35とで構成する。第1及び第2の保持棒32,33に、ウエハWの重量を支持する保持溝32a,33aを長手方向に列設し、第3及び第4の保持棒34,35には、ウエハWの転倒を防止する保持溝34a,35a長手方向に列設する。これにより複数枚のウエハWを所定の間隔をおいて安定した状態で保持することができ、ウエハWと処理液との接触を均一にすることができる。
Claim (excerpt)：
被処理体を浸漬処理する処理液を収容する処理槽と、この処理槽内に複数の上記被処理体を並列に立設させ処理液に浸漬させた状態で保持する保持手段とを具備する洗浄処理装置において、上記保持手段は、上記被処理体の両側下部をそれぞれ保持する第1及び第2の保持棒と、上記第1及び第2の保持棒より下部に位置して上記被処理体の下端部の両側をそれぞれ保持する第3及び第4の保持棒とからなり、上記第1及び第2の保持棒は、上記被処理体の重量を支持する保持溝を長手方向に列設し、上記第3及び第4の保持棒は、上記被処理体の転倒を防止する保持溝を長手方向に列設してなることを特徴とする洗浄処理装置。
IPC (3)：
H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/68
FI (3)：
H01L 21/304 341 C ,  H01L 21/304 341 T ,  H01L 21/68 N
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
  • 洗浄処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-035403   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
  • 遠心乾燥装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-307270   Applicant：株式会社カイジョー
  • 洗浄処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-123145   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
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