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J-GLOBAL ID：200903044952083654

フォトレジスト用重合体、これを含むフォトレジスト組成物及びその製造方法

Inventor： 崔 相 俊
Applicant, Patent owner： 三星電子株式会社
Agent (1)： 八田 幹雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998369258
Publication number (International publication number)：1999310611
Application date： Dec. 25, 1998
Publication date： Nov. 09, 1999
Summary：

【要約】【課題】 フォトレジスト用重合体、これを含むフォトレジスト組成物及びその製造方法が提供される。【解決手段】 重合体の骨格に酸により化学反応を起こす-CH(COOR1)2(R1は炭化水素基または炭化水素基の誘導体)が結合され、3つ以上の相異なるモノマーが重合された重合体を含む。これにより、コントラストが大きく、熱分解温度が高くて優秀なプロファイルのパターンを形成しうる。

Claim (excerpt)：

重合体の骨格に酸により化学反応を起こす-CH(COOR1)2(R1は炭化水素基または炭化水素基の誘導体)が結合され、3つ以上の相異なるモノマーが重合された重合体を含む化学増幅型フォトレジスト用重合体。

IPC (6)：

C08F 8/12 ,  C08F212/14 ,  C08K 5/17 ,  C08K 5/42 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/039 601

FI (6)：

C08F 8/12 ,  C08F212/14 ,  C08K 5/17 ,  C08K 5/42 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/039 601

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

• レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-249037   Applicant：三星電子株式会社
• 化学増幅形レジスト用のベース樹脂およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-184850   Applicant：三星電子株式会社
• 化学増幅ポジ型レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-331723   Applicant：信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
• レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-115306   Applicant：信越化学工業株式会社
• 化学増幅ポジ型レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-195615   Applicant：信越化学工業株式会社
• 改良型フォトレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-266844   Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• パターン形成材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-275149   Applicant：三菱電機株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-268112   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• パターン形成材料およびパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-110471   Applicant：富士通株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-259756   Applicant：日本合成ゴム株式会社