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J-GLOBAL ID:200903060210100189

半導体素子及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 安富 耕二 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998300996
Publication number (International publication number):2000133842
Application date: Oct. 22, 1998
Publication date: May. 12, 2000
Summary:
【要約】【目的】 良好な結晶性を有する素子構成層を備え、特性の優れた半導体素子を提供することを目的とする。【構成】 基板上1に窒化物半導体からなる素子構成層20を備える半導体素子であって、前記基板1上に、単結晶成長温度よりも低い低温で形成された第1バッファ層2Aと、単結晶成長温度で形成された第2バッファ層2Bとをこの順に備え、前記素子構成層20が、前記第2バッファ層2A上に形成されていることを特徴とする
Claim (excerpt):
基板上に窒化物半導体からなる素子構成層を備える半導体素子であって、前記基板上に、単結晶成長温度よりも低い低温で形成された第1バッファ層と、単結晶成長温度で形成された第2バッファ層とをこの順に備え、前記素子構成層が、前記第2バッファ層上に形成されていることを特徴とする半導体素子。
IPC (5):
H01L 33/00 ,  C23C 16/34 ,  H01L 21/205 ,  H01L 31/10 ,  H01S 5/02
FI (5):
H01L 33/00 C ,  C23C 16/34 ,  H01L 21/205 ,  H01S 3/18 610 ,  H01L 31/10 A
F-Term (71):
4K030AA11 ,  4K030AA13 ,  4K030AA17 ,  4K030AA18 ,  4K030BA02 ,  4K030BA08 ,  4K030BA11 ,  4K030BA26 ,  4K030BA37 ,  4K030BA38 ,  4K030BA47 ,  4K030BB02 ,  4K030BB12 ,  4K030CA05 ,  4K030FA10 ,  4K030JA10 ,  4K030LA18 ,  5F041AA11 ,  5F041AA12 ,  5F041AA40 ,  5F041AA43 ,  5F041CA05 ,  5F041CA22 ,  5F041CA34 ,  5F041CA46 ,  5F041CA65 ,  5F041CA66 ,  5F041FF14 ,  5F045AA04 ,  5F045AA05 ,  5F045AA17 ,  5F045AB09 ,  5F045AC01 ,  5F045AC08 ,  5F045AC12 ,  5F045AD10 ,  5F045AD12 ,  5F045AD14 ,  5F045AD15 ,  5F045AD16 ,  5F045AF09 ,  5F045BB12 ,  5F045CA10 ,  5F045CA12 ,  5F045CA13 ,  5F045DA53 ,  5F045DA55 ,  5F045DA58 ,  5F045HA12 ,  5F049MA01 ,  5F049MB07 ,  5F049NA07 ,  5F049PA03 ,  5F049PA04 ,  5F049QA16 ,  5F049QA18 ,  5F049SS01 ,  5F049WA03 ,  5F049WA05 ,  5F049WA09 ,  5F073AA55 ,  5F073AA71 ,  5F073AA74 ,  5F073CA07 ,  5F073CB05 ,  5F073CB07 ,  5F073CB08 ,  5F073DA05 ,  5F073DA25 ,  5F073DA35 ,  5F073EA29
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
  • GaN層および緩衝層の成長法およびその構造
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平10-092337   Applicant:財団法人工業技術研究院
  • 発光素子
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-190069   Applicant:豊田合成株式会社, 新技術事業団, 赤崎勇, 天野浩
  • 窒化物半導体の成長方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平7-237501   Applicant:日亜化学工業株式会社
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Cited by examiner (7)
  • GaN層および緩衝層の成長法およびその構造
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平10-092337   Applicant:財団法人工業技術研究院
  • 発光素子
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平6-190069   Applicant:豊田合成株式会社, 新技術事業団, 赤崎勇, 天野浩
  • 窒化物半導体の成長方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平7-237501   Applicant:日亜化学工業株式会社
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