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J-GLOBAL ID：200903061340549680

プラズマ処理装置

Inventor：
檜森 慎司

About 檜森 慎司


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社


Agent (1)： 須山 佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001303714
Publication number (International publication number)：2003109946
Application date： Sep. 28, 2001
Publication date： Apr. 11, 2003
Summary：
【要約】【課題】 高い周波数の高周波電力を使用した場合でも、電力ロスが増大することを抑制することができ、また、特殊な整合素子を用いることなく容易に整合をとることのできるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 HF整合器14とLF整合器17とが別体に構成され、HF整合器14は、下部電極2の下側に設けられた空隙13内に位置するように、下部電極2の下側中央部に配置され、HF整合器14の出力側が、非同軸構造の給電棒19を介して(同軸構造の給電棒を介することなく)、下部電極2に電気的に接続されている。第2の高周波電源18からの高周波電力は、LF整合器17、LPF16を介して、下部電極2の外周部から供給されるようになっている。
Claim (excerpt)：
内部を気密に閉塞可能とされ、被処理基板にプラズマを作用させて所定の処理を施すための真空チャンバと、前記真空チャンバ内に設けられ、前記被処理基板を載置するよう構成された下部電極と、前記下部電極と対向するように設けられた上部電極と、前記真空チャンバ内に所定の処理ガスを供給する処理ガス供給機構と、前記下部電極に所定の第1の周波数の高周波電力を供給する第1の高周波電源と、前記下部電極に前記第1の周波数より低い第2の周波数の高周波電力を供給する第2の高周波電源と、前記第1の高周波電源から前記下部電極に供給される高周波電力のインピーダンスマッチングを行う第1の整合器を有し、前記下部電極の中央部から当該下部電極に前記第1の周波数の高周波電力を給電するよう構成された第1の給電手段と、前記第1の整合器と別体に構成され、前記第2の高周波電源から前記下部電極に供給される高周波電力のインピーダンスマッチングを行う第2の整合器を有し、前記下部電極の外周部から当該下部電極に前記第2の周波数の高周波電力を給電するよう構成された第2の給電手段とを具備したことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4)：
H01L 21/3065 ,  B01J 19/08 ,  C23C 16/509 ,  H05H 1/46
FI (4)：
B01J 19/08 H ,  C23C 16/509 ,  H05H 1/46 L ,  H01L 21/302 C
F-Term (29)：
4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075AA62 ,  4G075AA63 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075CA25 ,  4G075CA47 ,  4G075CA63 ,  4G075EB42 ,  4G075FB04 ,  4G075FB06 ,  4G075FC15 ,  4K030CA04 ,  4K030CA06 ,  4K030CA12 ,  4K030FA03 ,  4K030JA18 ,  4K030KA14 ,  4K030KA30 ,  4K030KA46 ,  5F004AA16 ,  5F004BA04 ,  5F004BB11 ,  5F004BB13 ,  5F004BB22 ,  5F004BB29 ,  5F004BC06 ,  5F004CA03
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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