Pat
J-GLOBAL ID:200903061866064363
非晶質酸化物を利用した半導体デバイス
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (3):
山下 穣平
, 志村 博
, 永井 道雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005325370
Publication number (International publication number):2006165532
Application date: Nov. 09, 2005
Publication date: Jun. 22, 2006
Summary:
【課題】透明酸化物膜を用いた半導体デバイスや回路を提供する。【解決手段】P型領域と、N型領域とを備え、電子キャリア濃度が1018/cm3未満である非晶質酸化物、又は電子キャリア濃度が増加すると共に、電子移動度が増加する傾向を示す非晶質酸化物をN型領域に用いている。電子キャリア濃度が1018/cm3未満である非晶質酸化物又は電子キャリア濃度が増加すると共に、電子移動度が増加する傾向を示す非晶質酸化物からなる第1領域と、第1領域に対してヘテロ接合を形成する第2領域と、を具備する。【選択図】図12
Claim (excerpt):
半導体デバイスであって、
P型領域と、N型領域とを備え、
電子キャリア濃度が1018/cm3未満である非晶質酸化物を該N型領域に用いていることを特徴とする半導体デバイス。
IPC (13):
H01L 27/04
, H01L 21/822
, H01L 29/80
, H01L 29/786
, H01L 29/812
, H01L 21/338
, H01L 29/872
, H01L 29/47
, H01L 29/861
, H01L 27/11
, H01L 21/824
, H01L 27/10
, H01L 29/24
FI (10):
H01L27/04 P
, H01L29/80 V
, H01L29/78 618B
, H01L29/80 B
, H01L29/48 D
, H01L29/48 M
, H01L29/91 F
, H01L27/10 381
, H01L27/10 431
, H01L29/24
F-Term (60):
4M104AA10
, 4M104BB05
, 4M104BB06
, 4M104BB09
, 4M104CC03
, 4M104GG03
, 5F038AR07
, 5F038EZ02
, 5F038EZ06
, 5F038EZ14
, 5F038EZ20
, 5F083BS02
, 5F083BS14
, 5F083BS27
, 5F083BS29
, 5F083CR17
, 5F083HA02
, 5F083PR33
, 5F102FB01
, 5F102GB01
, 5F102GB04
, 5F102GC01
, 5F102GC07
, 5F102GC08
, 5F102GC09
, 5F102GD01
, 5F102GD04
, 5F102GJ01
, 5F102GT01
, 5F110AA05
, 5F110AA09
, 5F110BB01
, 5F110BB03
, 5F110BB04
, 5F110BB07
, 5F110BB08
, 5F110BB10
, 5F110BB20
, 5F110CC01
, 5F110CC07
, 5F110DD01
, 5F110DD02
, 5F110EE02
, 5F110FF01
, 5F110FF27
, 5F110GG02
, 5F110GG04
, 5F110GG05
, 5F110GG06
, 5F110GG15
, 5F110GG24
, 5F110GG28
, 5F110GG29
, 5F110GG42
, 5F110GG43
, 5F110HK02
, 5F110HK11
, 5F110HK21
, 5F110HK32
, 5F110QQ14
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
-
薄膜トランジスタ及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-096983
Applicant:シャープ株式会社
Cited by examiner (2)
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