顕微鏡微細作業用マイクロマニピュレーション装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：田中宏 , 樋口榮四郎 , 宮本晴視
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006221399
Publication number (International publication number)：2008046324
Application date： Aug. 15, 2006
Publication date： Feb. 28, 2008
Summary：

【課題】顕微鏡観察画像視野下で顕体試料とマイクロプローブの針先を観察しながら、半導体集積回路などの多層微細配線深層部へダイレクトに電気的特性の測定を行ない不良箇所の解析を行なうにおいて、絶縁膜を効率的に除去し、測定対象箇所へのプローブの移動と位置決めを効率的に行ない、同時に操作性および確実性に優れた微細作業を行なうことのできるマニピュレーション装置の提供【構成】局所プラズマ機構、および該局所プラズマ機構の先端部であるプラズマキャピラリー管を把持するプラズマキャピラリー管位置決めステージ、試料ステージおよび1つまたはそれ以上のプローバがプローバベース上に載置され、該プローバベースが顕微鏡の視野下に着脱自在に装着できる構造を有することを特徴とする顕微鏡微細作業用マイクロマニピュレーション装置である。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

局所プラズマ機構、および該局所プラズマ機構の先端部であるプラズマキャピラリー管を把持するプラズマキャピラリー管位置決めステージ、試料ステージおよび1つまたはそれ以上のプローバがプローバベース上に載置され、該プローバベースが顕微鏡の視野下に着脱自在に装着できる構造を有することを特徴とする顕微鏡微細作業用マイクロマニピュレーション装置。

IPC (5)：

G02B 21/32 , H01L 21/66 , G01R 31/26 , H01J 37/20 , B25J 7/00

FI (5)：

G02B21/32 , H01L21/66 B , G01R31/26 Z , H01J37/20 F , B25J7/00

F-Term (18)：

2G003AA07 , 2G003AG03 , 2G003AG12 , 2G003AH04 , 2H052AD20 , 2H052AF10 , 2H052AF19 , 3C007BS30 , 3C007GS01 , 3C007XG05 , 3C007XG08 , 4M106AA01 , 4M106BA01 , 4M106CA01 , 4M106DD22 , 4M106DH50 , 5C001BB07 , 5C001CC04

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

微細作業用マイクロマニピュレーション装置及び微細作業用マイクロプローブ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-025155 Applicant：株式会社三友製作所, 山本佳男
微細作業用マイクロマニピュレーション装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-169974 Applicant：株式会社三友製作所
電子顕微鏡微細作業用マニピュレーション装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-038093 Applicant：株式会社三友製作所, 独立行政法人産業技術総合研究所

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Cited by examiner (8)

特開平4-100252
走査電子顕微鏡装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-350011 Applicant：株式会社豊田中央研究所
特開昭59-143249

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