Pat
J-GLOBAL ID:200903062659132800
電気集積回路および該電気集積回路を製造する方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
矢野 敏雄 (外4名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2000539521
Publication number (International publication number):2002509354
Application date: Dec. 16, 1998
Publication date: Mar. 26, 2002
Summary:
【要約】本発明は、電気集積回路であって、複数の構造平面が設けられており、該構造平面において、少なくとも1つの素子用構造平面上に電気的な能動素子(20,30,40;520,530,540)が位置しており、前記素子用構造平面の上側に、少なくとも1つの絶縁層(320;820)が配置されており、該絶縁層(320;820)の内部および/または上側に、電気的な接続線路(330,340,350,360,410,420,430;830,840,850,860,910,920)が配置されており、該接続線路(330,340,350,360,410,420,430;830,840,850,860,910,920)の少なくとも一部分が、該接続線路の特性にとって有利である量の銅を含んでおり、前記接続線路(330,340,350,360,410,420,430;830,840,850,860,910,920)の下側に、銅の拡散を防止かつ/または阻止する少なくとも1つの拡散ブロッカが配置されている形式のものに関する。さらに、本発明は、電気集積回路を製造する方法に関する。
Claim (excerpt):
電気集積回路であって、 複数の構造平面が設けられており、 該構造平面において、少なくとも1つの素子用構造平面上に電気的な能動素子(20,30,40;520,530,540)が位置しており、 前記素子用構造平面の上側に、少なくとも1つの絶縁層(320;820)が配置されており、 該絶縁層(320;820)の内部および/または上側に、電気的な接続線路(330,340,350,360,410,420,430;830,840,850,860,910,920)が配置されており、 該接続線路(330,340,350,360,410,420,430;830,840,850,860,910,920)の少なくとも一部分が、該接続線路の特性にとって有利である量の銅を含んでおり、 前記接続線路(330,340,350,360,410,420,430;830,840,850,860,910,920)の下側に、銅の拡散を防止かつ/または阻止する少なくとも1つの拡散ブロッカが配置されている形式のものにおいて、 拡散ブロッカが、接点ホール(170,180,190,200,210,220;670,680,690,700,710,720)および/または接続片(750,760,770,780,790,800)の領域においてのみ中断されたブロッカ層(160;660)として形成されており、該ブロッカ層(160;660)が、前記素子用構造平面と絶縁層(320;820)との間に位置していることを特徴とする電気集積回路。
IPC (3):
H01L 21/768
, H01L 21/316
, H01L 21/318
FI (3):
H01L 21/316 M
, H01L 21/318 M
, H01L 21/90 K
F-Term (58):
5F033HH08
, 5F033HH09
, 5F033HH11
, 5F033JJ11
, 5F033JJ18
, 5F033JJ19
, 5F033JJ32
, 5F033JJ33
, 5F033KK01
, 5F033KK08
, 5F033KK09
, 5F033KK11
, 5F033MM08
, 5F033NN06
, 5F033NN07
, 5F033NN38
, 5F033PP15
, 5F033QQ08
, 5F033QQ09
, 5F033QQ13
, 5F033QQ14
, 5F033QQ25
, 5F033QQ37
, 5F033QQ74
, 5F033QQ75
, 5F033RR01
, 5F033RR03
, 5F033RR04
, 5F033RR05
, 5F033RR06
, 5F033RR07
, 5F033RR08
, 5F033RR11
, 5F033RR15
, 5F033RR21
, 5F033RR22
, 5F033SS02
, 5F033SS04
, 5F033SS11
, 5F033SS15
, 5F033VV00
, 5F033WW02
, 5F033XX01
, 5F033XX03
, 5F033XX10
, 5F033XX24
, 5F033XX27
, 5F033XX28
, 5F058BA20
, 5F058BD02
, 5F058BD04
, 5F058BD05
, 5F058BD06
, 5F058BD10
, 5F058BD15
, 5F058BD19
, 5F058BF07
, 5F058BJ02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
-
半導体装置およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-210624
Applicant:株式会社東芝
-
半導体基板の上に相互接続チャネルを形成する方法および半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-182187
Applicant:インテル・コーポレーション
-
半導体装置及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-125758
Applicant:株式会社東芝
-
半導体装置及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-170659
Applicant:株式会社日立製作所, 日立超エル・エス・アイ・エンジニアリング株式会社
-
半導体集積回路の配線構造体及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-107137
Applicant:川崎製鉄株式会社
-
電気的相互接続用薄膜金属バリア層
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-163398
Applicant:インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
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