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J-GLOBAL ID：200903062692844913

インプリント方法およびインプリント用のテンプレート

Inventor：
三上 信二

About 三上 信二

, 
米田 郁男

About 米田 郁男


Applicant, Patent owner：
株式会社東芝

About 株式会社東芝


Agent (1)： 酒井 宏明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008056394
Publication number (International publication number)：2009212449
Application date： Mar. 06, 2008
Publication date： Sep. 17, 2009
Summary：
【課題】各ショット間に隙間を設けずともパターン転写不良を防止できるインプリント方法およびこのインプリント方法において用いられるテンプレートを提供する。【解決手段】光硬化材料が塗布された基板14にテンプレート11の凹凸形成面を接触させた状態で光Lを照射することによって基板14に塗布された光硬化材料を硬化させてパターニングを行なう場合、基板14への1回あたりの照射光量として、テンプレート11の凹凸パターンを含むパターン形成領域に対応する領域への照射光量よりも、テンプレート11のパターン形成領域よりも外部であるパターン外周領域の少なくとも一部に対応する領域への照射光量の方を少なくしている。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
光硬化材料が塗布された試料面にテンプレートの凹凸パターン形成面を接触させた状態で光を照射することによって、前記試料に塗布された光硬化材料を硬化させてパターニングを行なうインプリント方法において、 前記光硬化材料の所定のショットへの1回あたりの照射において、前記テンプレートの凹凸パターンを含むパターン形成領域に接触する光硬化材料領域への照射光量は、前記パターン形成領域よりも外部であるパターン外周領域の少なくとも一部に接触する光硬化材料領域への照射光量よりも大きいことを特徴とするインプリント方法。
IPC (4)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  B81C 5/00 ,  B29C 59/02
FI (4)：
H01L21/30 502D ,  G03F7/20 501 ,  B81C5/00 ,  B29C59/02 Z
F-Term (17)：
2H097LA10 ,  3C081AA01 ,  3C081CA37 ,  3C081DA10 ,  4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209AR11 ,  4F209AR20 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN09 ,  4F209PN13 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA28
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (8)
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