カーボンオニオン薄膜およびその製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小谷悦司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000294996
Publication number (International publication number)：2002105623
Application date： Sep. 27, 2000
Publication date： Apr. 10, 2002
Summary：

【要約】【課題】オニオン構造を有する巨大フラーレンクラスターで構成されたカーボンオニオン薄膜を提供する。【解決手段】炭素を主成分とし、膜厚が少なくとも20nm以上であり、オニオン構造のクラスターを有するカーボンオニオン薄膜である。具体的には、上記要件を満たし、且つ、?@0.001μm2中に、オニオン構造を有する直径が少なくとも4nm以上のクラスターを、少なくとも20個以上含有するか、または?Aマトリックス中に占める、オニオン構造を有するクラスターの比率が少なくとも50体積%以上であるカーボンオニオン薄膜である。

Claim (excerpt)：

炭素を主成分とし、膜厚が少なくとも20nm以上であり、オニオン構造のクラスターを有することを特徴とするカーボンオニオン薄膜。

IPC (3)：

C23C 14/06 , C01B 31/02 101 , C23C 14/35

FI (3)：

C23C 14/06 F , C01B 31/02 101 F , C23C 14/35 C

F-Term (15)：

4G046CB03 , 4G046CB08 , 4G046CC06 , 4K029AA06 , 4K029AA24 , 4K029BA02 , 4K029BA03 , 4K029BA33 , 4K029BA34 , 4K029BB07 , 4K029CA05 , 4K029DC40 , 4K029DC43 , 4K029EA01 , 4K029EA06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

フラーレン含有構造体およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-069426 Applicant：科学技術振興事業団, 田中俊一郎
フラーレンおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-126643 Applicant：新技術事業団, 田中俊一郎
超微粒子内包フラーレンおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-021718 Applicant：新技術事業団, 田中俊一郎

Show all

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

Return to Previous Page